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氧化物刻蚀方法及设备专利

时间:2026-09-25    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明公开了一种氧化物刻蚀方法及设备,所述方法包括以下步骤:S1、测量刻蚀设备腔体中电子载台上掩避环的缺失厚度,判断缺失厚度是否小于系统设置阈值,若是,执行步骤S2,若否,更换新的电子载台后执行步骤S2;S2、将晶圆放置于刻蚀设备腔体中的电子载台上;S3、开启刻蚀设备,通入刻蚀气体,产生等离子轰击晶圆,完成刻蚀。本发明通过对电子载台上的缺陷厚度进行监控,当缺失厚度达到一定值时,更换新的电子载台,有效地控制了晶圆表面的缺陷数量。 【专利类型】发明申请 【申请人】无锡华润上华科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】滨湖区 【申请号】CN201210288282.0 【申请日】2012-08-14 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103594309A 【公开公告日】2014-02-19 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】H01J37/244; H01J37/32 【发明人】陈亚威 【主权项内容】一种氧化物刻蚀方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:S1、测量刻蚀设备腔体中电子载台上掩避环的缺失厚度,判断缺失厚度是否小于系统设置阈值,若是,执行步骤S2,若否,更换新的电子载台后执行步骤S2;S2、将晶圆放置于刻蚀设备腔体中的电子载台上;S3、开启刻蚀设备,通入刻蚀气体,产生等离子轰击晶圆,完成刻蚀。 【当前权利人】无锡华润上华科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 【专利权人类型】有限责任公司(港澳台法人独资) 【统一社会信用代码】91320214739444443B 【引证次数】5.0 【被引证次数】2 【他引次数】5.0 【被他引次数】2.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】2

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