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一种光纤焊接方法专利

时间:2026-10-05    作者:admin 点击: ( 1 ) 次

【摘要】 本发明公开一种光纤焊接方法,是按照下述步骤进行的:a、在光纤圆周镀上1~3μm的银层,之后镀上5~20μm的铟层;b、在硅片的V型槽上镀上一层1~6μm的银层,之后再填充一层10~100μm的硼硅酸玻璃层或者NaSiO2层;c、将步骤a中得到的光纤放入步骤b的V型槽内,在100~700v电压下、加热硅片至80~200℃,持续1-50分钟。本发明在光纤外镀上金属铟,由于铟是软焊料,有较大的延展性,减少光纤与硅片之间由于热膨胀系数造成的危害,防止热膨胀系数不同使光纤与硅片脱离。与现有技术相比,本发明避免使用环氧树脂。另外,在V型槽中先镀上一层银,增加了焊接时的导电性;而V型槽底部填充满硼硅酸玻璃,增加光纤与V型槽接触面积,焊接更牢固。 【专利类型】发明授权 【申请人】郑州大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】450001 河南省郑州市科学大道100号 【申请人地区】中国 【申请人城市】郑州市 【申请人区县】中原区 【申请号】CN201210007827.6 【申请日】2012-01-12 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103207431B 【公开公告日】2014-12-10 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN103207431B 【授权公告日】2014-12-10 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】G02B6/255 【发明人】程东明 【主权项内容】一种光纤焊接方法,其特征在于是按照下述步骤进行的:a、在光纤圆周镀上1~3μm的银层,之后镀上5~20μm的铟层;b、在硅片的V型槽上镀上一层1~6μm的银层,之后再填充一层10~100μm的硼硅酸玻璃层或者NaSiO2层;c、将步骤a中得到的光纤放入步骤b的V型槽内,在100~700v电压下、加热硅片至80~200℃,持续1-50分钟。 【当前权利人】郑州大学 【当前专利权人地址】河南省郑州市科学大道100号 【统一社会信用代码】12410000415800376M 【引证次数】3.0 【他引次数】3.0 【家族引证次数】3.0 【家族被引证次数】2

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