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一种复合靶真空表面镀膜工艺专利

时间:2026-09-25    作者:admin 点击: ( 2 ) 次

【摘要】 本发明涉及表面处理技术领域,尤其是指一种复合靶真空表面镀膜工艺。该镀膜工艺选取钛铬合金作为靶材,在真空环境下完成,其中,真空环境的真空度要求为0.2~0.9Pa,温度为0~300℃,靶电流为0~100A,脉冲偏压为0~200V,反应气体为氩气;所述钛铬合金靶材,其组分按重量比为:40~85%的钛、10~55%的铬,余量为微量元素,所述微量元素为钼、镍、铁、碳、锰、硅、氮、铜、铝、钒中的一种或多种。本发明工艺简单,科学合理,投资成本低,且操作运行简便,大大提高了真空离子镀膜的运行率和可操作性,迎合新型材料生产,可使产品表面获得色泽鲜艳的金色,镀膜色泽均匀、表面硬度高、耐磨性好、抗氧化性好。 【专利类型】发明申请 【申请人】无锡慧明电子科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214000 江苏省无锡市锡山区锡山经济开发区芙蓉中三路99号 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】锡山区 【申请号】CN201210352694.6 【申请日】2012-09-21 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103668087A 【公开公告日】2014-03-26 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】C23C14/32 【发明人】袁萍 【主权项内容】一种复合靶真空表面镀膜工艺,其特征在于:该镀膜工艺选取钛铬合金作为靶材,在真空环境下完成,其中,真空环境的真空度要求为0.2~0.9Pa,温度为0~300℃,靶电流为0~100A,脉冲偏压为0~200V,反应气体为氩气。 【当前权利人】无锡慧明电子科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市锡山区锡山经济开发区芙蓉中三路99号 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股) 【统一社会信用代码】91320205585595002P

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