【摘要】 本发明涉及化学气相淀积设备和化学气相淀积法中清洗履带的方法。本发明的化学气相淀积设备包括：腔体；将处理气体供给所述腔体的进气装置；将处理后的气体导出所述腔体的排气装置；移动载置被处理圆片的履带；用于对所述履带上的被处理圆片进行加热的加热块；对所述履带表面喷淋气化腐蚀液的喷淋装置；利用超声波对所述履带表面进行清洗的超声波清洗装置；以及对所述履带表面进行烘干的烘干装置。根据本发明，能够有效地清除履带上积累的SiO2，能够解决圆片表面颗粒问题，提高了圆片表面质量，而且还能够提高化学气相淀积设备的使用效率。。 【专利类型】发明申请 【申请人】无锡华润华晶微电子有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区信息产业科技园C座2楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】滨湖区 【申请号】CN201210301805.0 【申请日】2012-08-23 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103628038A 【公开公告日】2014-03-12 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】C23C16/44 【发明人】王训辉; 吴啸; 过奇钧; 范建超 【主权项内容】一种化学气相淀积设备，包括：腔体；将处理气体供给所述腔体的进气装置；将处理后的气体导出所述腔体的排气装置；移动载置被处理圆片的履带，其特征在于，还包括：喷淋装置，对所述履带表面喷淋气化腐蚀液；超声波清洗装置，利用超声波对所述履带表面进行清洗；以及烘干装置，对所述履带表面进行烘干。 【当前权利人】无锡华润华晶微电子有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市国家高新技术产业开发区信息产业科技园C座2楼 【专利权人类型】有限责任公司(港澳台投资、非独资) 【统一社会信用代码】913202147140943367 【引证次数】5.0 【被引证次数】3 【他引次数】5.0 【被他引次数】3.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】3

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