【摘要】 一种光学临近矫正方法，该方法通过在光学临近矫正程序中，加入对因覆盖孔而引起的凸起的清理程序，在执行OPC处理程序之前，首先对目标图形进行该清理程序，修复所有由孔引起的凸起，进而避免OPC处理过程中因该些凸起产生的缺陷问题。由于本发明的清理程序全依赖图形软件执行，无需对现有的OPC设备进行硬件层面的调整，并且处理过程自动快速，几乎不对工艺的周期产生影响，在提高产品品质的同时，大大节省了成本。 【专利类型】发明申请 【申请人】无锡华润上华半导体有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】滨湖区 【申请号】CN201210275387.2 【申请日】2012-08-03 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103576443A 【公开公告日】2014-02-12 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN103576443B 【授权公告日】2016-05-11 【授权公告年份】2016.0 【IPC分类号】G03F1/36 【发明人】陈洁; 王谨恒; 万金垠; 张雷 【主权项内容】一种光学临近矫正方法，其特征在于，所述矫正方法包括步骤：根据工艺规格确定光刻工艺参数；根据所述光刻工艺参数确定光学临近矫正模型，建立光学临近矫正的运算程序；清理孔与金属层叠加后形成的凸起，生产OPC待处理文件；对所述OPC待处理文件运行所述光学临近矫正的运算程序，得到该待处理文件的修正图形；以所述修正图形为掩膜图形，进行掩膜板制造。 【当前权利人】无锡华润上华科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 【专利权人类型】有限责任公司(外商合资) 【统一社会信用代码】91320214714903842J 【引证次数】5.0 【被引证次数】4 【他引次数】5.0 【被他引次数】4.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】6

未经允许不得转载：http://www.zhongzhencnc.com/1790306308.html