【摘要】 本发明涉及一种制备大面积高质量非晶碳薄膜的方法。本发明首先向反应系统通入具有还原性质的气体，在高温下将反应基底的金属表面氧化层完全去除。其次向反应系统通入碳源气体，其中碳源气体高温下裂解并分离出碳原子，碳原子高温时溶解在反应基底的金属表面层。然后快速冷却高温反应炉，使反应系统温度骤降，低温下碳原子在金属中的溶解性明显降低，碳原子迅速在金属表面析出形成非晶碳薄膜。最后将反应基底上的非晶碳薄膜在一定温度下进行表面退火处理，非晶碳薄膜的质量进一步提高。本发明利用金属在不同温度下对碳原子的溶解和析出作用，工艺简单，操作方便，适合大面积低成本制备。 【专利类型】发明授权 【申请人】浙江大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号 【申请人地区】中国 【申请人城市】杭州市 【申请人区县】西湖区 【申请号】CN201210223312.X 【申请日】2012-06-27 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102747337B 【公开公告日】2014-06-11 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102747337B 【授权公告日】2014-06-11 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】C23C16/26; C23C16/02; C23C16/56 【发明人】董策舟; 王宏涛; 李倩倩; 冯琼; 刘德重; 赵思远 【主权项内容】1.一种制备大面积高质量非晶碳薄膜的方法，其特征在于该方法包括以下步骤： 步骤1：向反应系统通入具有还原性质的气体，在高温下将反应基底的金属表面氧化层完全去除； 步骤2：向反应系统通入碳源气体，其中碳源气体高温下裂解并分离出碳原子，碳原子高温时溶解在反应基底的金属表面层； 步骤3：快速冷却高温反应炉，使反应系统温度骤降至常温，低温下碳原子在金属中的溶解性明显降低，碳原子迅速在金属表面析出形成非晶碳薄膜； 步骤4：将反应基底上的非晶碳薄膜在设定温度下进行表面退火处理，非晶碳薄膜的质量进一步提高； 步骤1所述的还原性质的气体可以为氢气、氢气与氩气的混合气、氢气与氮气的混合气； 步骤1所述的反应基底可以为镍箔、金箔或铂箔； 步骤2所述的碳源气体可以为甲烷、乙炔或丙烯。 【当前权利人】浙江大学 【当前专利权人地址】浙江省杭州市西湖区浙大路38号 【专利权人类型】公立 【统一社会信用代码】12100000470095016Q 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】3

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