【摘要】 本发明公开了一种恒磨削量的抛光方法，包括：1)根据工件要抛光的图形轮廓，生成运动控制器可识别的加工代码，设定抛光磨削量大小，用伺服放大器上的驱动电流I0表示，运动控制器根据运动控制器可识别的加工代码对工件开始抛光加工；2)抛光加工过程中，运动控制器读取伺服放大器的驱动电流信号，对加工轨迹进行重新修正。本发明通过将伺服放大器的驱动电流作为反馈输入，对加工轨迹进行实时修正，从而补偿砂轮磨损，实现恒磨削量的抛光。本发明恒磨削量的抛光方法具有原理简单、实现方便等优点，在玻璃陶瓷等脆性材料的抛光中有着广泛的应用前景。 【专利类型】发明授权 【申请人】浙江大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号 【申请人地区】中国 【申请人城市】杭州市 【申请人区县】西湖区 【申请号】CN201210288728.X 【申请日】2012-08-14 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102806513B 【公开公告日】2014-12-03 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102806513B 【授权公告日】2014-12-03 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】B24B29/02 【发明人】贺永; 傅建中; 詹伯良; 朱伟杰 【主权项内容】一种恒磨削量的抛光方法，包括以下步骤：1)根据工件要抛光的图形轮廓，生成运动控制器可识别的加工代码，设定抛光磨削量大小，用伺服放大器上的驱动电流I0表示，运动控制器根据运动控制器可识别的加工代码对工件开始抛光加工；2)抛光加工过程中，运动控制器读取伺服放大器的驱动电流信号，对加工轨迹进行重新修正；具体包括：运动控制器在伺服周期Ti读取伺服放大器的驱动电流Ii，设当前砂轮中心的位置为Pi(Xi, Yi)，下一个砂轮中心的运动目标点位置为Pi+1(Xi+1, Yi+1)；将Pi+1(Xi+1, Yi+1)动态修正为P’i+1(Xi+1+ΔXi, Yi+1+ΔYi)，其中，Δ Xi=-Δ Ri(Yi+1-YiLi), Δ Yi=-Δ Ri(Xi+1-XiLi); Δ Ri=K1Ei+K2Σ k=1k=iEk+K3(Ei-Ei-1), Δ Ri]]>为砂轮磨损量，K1、K2和K3为压力补偿调节系数，Pi点伺服放大器电流误差Ei＝I0-Ii，Pi点之前的Pi-1点伺服放大器电流误差Ei-1＝I0-Ii-1，Ii-1是Pi-1点读取的伺服放大器的驱动电流Ii-1，为运行到Pi点的误差之和，PiPi+1直线轨迹段长度Li=(Xi-Xi+1)2+(Yi-Yi+1)2, ]]>K1＝0.01～0.1，K2＝0.02～0.2，K3＝0.04～0.4。 【当前权利人】浙江大学 【当前专利权人地址】浙江省杭州市西湖区浙大路38号 【专利权人类型】公立 【统一社会信用代码】12100000470095016Q 【引证次数】6.0 【他引次数】6.0 【家族引证次数】6.0 【家族被引证次数】11

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