【摘要】 本发明公开了一种基于切向偏振光的受激发射损耗显微方法，包括将第一激光光束和第二激光光束分别转换为第一切向偏振光和第二切向偏振光；第一切向偏振光经相位调制后投射到荧光样品上形成激发光斑；第二切向偏振光分解为第一工作光束和第二工作光束，第一工作光束和第二工作光束分别进行相位调制形成第一STED光束和第二STED光束，且经显微物镜投射到荧光样品上通过非相干叠加形成相应的STED光斑，该STED光斑的中心点与激发光斑的中心点重合得到聚焦光斑；收集荧光样品在该聚焦光斑作用下发出的荧光，经处理后得到显微图像。本发明还公开了基于上述方法的受激发射损耗显微装置。本发明在相同工作光强下，能够实现较高的分辨率。。 【专利类型】发明授权 【申请人】浙江大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号 【申请人地区】中国 【申请人城市】杭州市 【申请人区县】西湖区 【申请号】CN201210144381.1 【申请日】2012-05-10 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102661938B 【公开公告日】2014-04-23 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102661938B 【授权公告日】2014-04-23 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】G01N21/64; G02B21/36; G02B27/28 【发明人】匡翠方; 李帅; 薛懿; 顾兆泰; 刘旭 【主权项内容】一种基于切向偏振光的受激发射损耗显微方法，包括将第一激光光束和第二激光光束分别转换为第一切向偏振光和第二切向偏振光；所述第一切向偏振光经相位调制后投射到荧光样品上形成激发光斑；其特征在于：所述第二切向偏振光分解为第一工作光束和第二工作光束，所述第一工作光束和所述第二工作光束分别进行相位调制形成第一STED光束和第二STED光束，所述第一STED光束和所述第二STED光束经显微物镜投射到荧光样品上通过非相干叠加形成相应的STED光斑，该STED光斑的中心点与所述激发光斑的中心点重合得到聚焦光斑；收集荧光样品在该聚焦光斑作用下发出的荧光，经处理后得到相应的显微图像；所述的第一工作光束进行相位调制的调制函数为：所述θ为入射光束垂直光轴剖面内各点所对应的孔径角，所述的为入射光束垂直光轴剖面内各点的极坐标位置矢量与x轴的夹角，θ1、θ2、θ3、θ4均为对应的位相板的结构参数，所述α为由显微物镜的数值孔径NA所决定的最大孔径角，n为待测荧光样品周围介质的折射率。 【当前权利人】浙江大学 【当前专利权人地址】浙江省杭州市西湖区浙大路38号 【专利权人类型】公立 【统一社会信用代码】12100000470095016Q 【引证次数】1.0 【自引次数】1.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】42

未经允许不得转载：http://www.zhongzhencnc.com/1791615296.html