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少层数MoS2石墨烯电化学贮锂复合电极的制备方法专利

时间:2026-10-10    作者:admin 点击: ( 1 ) 次

【摘要】 本发明涉及少层数MoS2/石墨烯电化学贮锂复合电极的制备方法,其步骤是:将氧化石墨烯超声分散在去离子水中,搅拌下先加入八烷基三甲基溴化铵阳离子表面活性剂,然后加入硫代钼酸铵并滴加水合肼,于95℃回流反应,使硫代钼酸铵和氧化石墨烯同时分别还原成MoS2和石墨烯,离心收集固体产物,去离子洗涤,干燥,在氮气/氢气混合气氛中热处理,得到少层数(2-4层)MoS2与石墨烯的复合纳米材料,将少层数MoS2与石墨烯复合纳米材料与乙炔黑及聚偏氟乙烯调成糊状物,涂到铜箔上滚压。本发明方法工艺简单,不消耗有机溶剂。以少层数MoS2/石墨烯复合材料为电化学贮锂复合电极,具有高电化学贮锂比容量,优异的循环性能和好的高倍率充放电特性。 【专利类型】发明授权 【申请人】浙江大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号 【申请人地区】中国 【申请人城市】杭州市 【申请人区县】西湖区 【申请号】CN201210187858.4 【申请日】2012-06-08 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102683648B 【公开公告日】2014-05-21 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102683648B 【授权公告日】2014-05-21 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】H01M4/1393 【发明人】陈卫祥; 王臻; 黄国创; 马琳 【主权项内容】1.少层数MoS2/石墨烯电化学贮锂复合电极的制备方法,该复合电极的电化学贮锂活性物质为少层数MoS2与石墨烯复合纳米材料,少层数MoS2的平均层数为2-4层,复合电极各组分的质量百分比含量为:少层数MoS2/石墨烯复合纳米材料80-85%,乙炔黑5-10%,聚偏氟乙烯10%,其中少层数MoS2/石墨烯复合纳米材料中少层数MoS2与石墨烯的物质的量之比为1 : 3,其制备包括以下步骤: (1)将氧化石墨烯超声分散在去离子水中,再加入八烷基三甲基溴化铵阳离子表面活性剂,并充分搅拌,八烷基三甲基溴化铵浓度为0.02 M,氧化石墨烯的含量为26.9-80.7 mmol/L; (2)将硫代钼酸铵加入到步骤(1)得到的混合体系中,硫代钼酸铵与氧化石墨烯的物质的量之比在1 : 1-1 : 3,充分搅拌,在搅拌下向其中慢慢滴加质量百分比浓度为85%的水合肼,滴加水合肼体积为X,X/mL=Y·Z/mmol, Y=1.24-2.79, Z代表硫代钼酸铵物质的量与氧化石墨烯物质的量之和,连续搅拌并加热到95℃,在不断搅拌和回流条件下反应5-8 h,使硫代钼酸铵和氧化石墨烯同时分别还原成MoS2和石墨烯,通过离心分离收集固体产物,并用去离子水充分洗涤,然后在100℃真空干燥; (3)将所得到的固体产物在氮气/氢气混合气氛中在800℃下热处理2h,混合气体中氢气的体积比为10%,得到少层数MoS2与石墨烯的复合纳米材料,少层数MoS2的平均层数为2-4层; (4)将上述制备的少层数MoS2/石墨烯复合纳米材料作为电极的电化学贮锂活性物质,与乙炔黑及质量浓度5%的聚偏氟乙烯的N-甲基吡咯烷酮溶液在搅拌下充分混合调成均匀的糊状物,各组分质量百分比为:少层数MoS2/石墨烯复合纳米材料80-85%,乙炔黑5-10%,聚偏氟乙烯10%,将该糊状物均匀地涂到作为集流体的铜箔上,真空干燥,滚压得到复合电极。 【当前权利人】浙江大学 【当前专利权人地址】浙江省杭州市西湖区浙大路38号 【专利权人类型】公立 【统一社会信用代码】12100000470095016Q 【引证次数】2.0 【自引次数】2.0 【家族引证次数】2.0 【家族被引证次数】38

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