【摘要】 本发明公开了一种反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法。包括以下步骤：(1)将待曝光的光栅材料的表面进行抛光；(2)在光栅出射面上镀有反射膜；(3)用一束平行的紫外光从光栅入射面照射光栅材料，反射的紫外光在光栅材料内部和入射的紫外光进行干涉，从而形成干涉条纹；(4)干涉条纹周期Λ=λ/(2nsinα)；(5)保持入射的紫外光和光栅材料的位置5分钟至1小时，至此紫外曝光过程结束。本发明的紫外曝光方法针对反射式体全息布拉格光栅而设计，通过在光栅材料的后表面镀高反射膜，从而只用一束紫外激光照射光栅材料就可以在光栅材料内部形成干涉条纹，不再需要将紫外激光分为两束然后再干涉，从而大大简化了紫外曝光装置。 【专利类型】发明授权 【申请人】浙江大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号 【申请人地区】中国 【申请人城市】杭州市 【申请人区县】西湖区 【申请号】CN201210360192.8 【申请日】2012-09-25 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102902002B 【公开公告日】2014-06-25 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102902002B 【授权公告日】2014-06-25 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】G02B5/18; G03F7/20 【发明人】刘崇; 叶志斌; 葛剑虹; 项震; 王毅 【主权项内容】1.一种反射式体全息布拉格光栅紫外曝光的方法，其特征在于包括以下步骤：A.将待曝光的光栅材料(3)的表面进行抛光，使光栅入射面(4)和光栅出射面(5)的表面粗糙度达到Ra < 0.01μm，Ra为轮廓算术平均偏差，光栅入射面(4)与光栅出射面(5)平行或者光栅入射面(4)与光栅出射面(5)之间的夹角β为1～20度；B.在光栅出射面(5)上镀有紫外光波段反射率大于90%的高反射膜；C.用一束平行的紫外光(1)从光栅入射面(4)照射光栅材料(3)，紫外光(1)入射至光栅材料(3)内部后到达光栅出射面(5)，被光栅出射面(5)上的高反射膜反射，反射的紫外光(2)在光栅材料(3)内部和入射的紫外光(1)进行干涉，从而形成了强度周期性变化的干涉条纹(6)；D.干涉条纹(6)周期Λ = λ / (2 n sinα)，其中，λ为入射紫外光的波长，n为光栅材料的折射率，α为光栅材料(3)内入射的紫外光(1)和光栅出射面(5)的夹角；E.保持入射的紫外光(1)和光栅材料(3)的位置，使干涉条纹(6)在光栅材料(3)内部保持5分钟至1小时，光栅材料(3)的特性发生了周期性变化，体全息布拉格光栅的周期和干涉条纹的周期一致，至此紫外曝光过程结束。 【当前权利人】浙江大学 【当前专利权人地址】浙江省杭州市西湖区浙大路38号 【专利权人类型】公立 【统一社会信用代码】12100000470095016Q 【引证次数】6.0 【他引次数】6.0 【家族引证次数】6.0 【家族被引证次数】12

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