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钨靶材的制作方法专利

时间:2026-10-06    作者:admin 点击: ( 1 ) 次

【摘要】 一种钨靶材的制作方法,包括:提供钨粉末;采用热压工艺将钨粉末烧结成型,形成钨靶材坯料;完成烧结成型后,采用热等静压工艺将钨靶材坯料进行致密化处理形成钨靶材。采用本发明提供的钨靶材的制作方法,能够制作出99.4%以上的全致密度的钨靶材,而且,钨靶材的内部组织结构的均匀性和晶粒尺寸满足要求越来越高的溅射工艺。 【专利类型】发明申请 【申请人】宁波江丰电子材料有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】315400 浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路198号 【申请人地区】中国 【申请人城市】宁波市 【申请人区县】余姚市 【申请号】CN201210259861.2 【申请日】2012-07-25 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103567443A 【公开公告日】2014-02-12 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN103567443B 【授权公告日】2015-10-07 【授权公告年份】2015.0 【IPC分类号】B22F3/16; B22F3/04 【发明人】姚力军; 相原俊夫; 大岩一彦; 潘杰; 王学泽; 袁海军 【主权项内容】一种钨靶材的制作方法,其特征在于,包括:提供钨粉末;采用热压工艺将钨粉末烧结成型,形成钨靶材坯料;完成烧结成型后,采用热等静压工艺将钨靶材坯料进行致密化处理形成钨靶材。 【当前权利人】宁波江丰电子材料股份有限公司 【当前专利权人地址】浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路 【引证次数】8.0 【被引证次数】11 【自引次数】1.0 【他引次数】7.0 【被他引次数】11.0 【家族引证次数】8.0 【家族被引证次数】11

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