【摘要】 一种钼靶材的制作方法，包括：提供钼粉末；采用静压工艺将钼粉末进行第一次致密化处理，形成第一钼靶材坯料；将第一钼靶材坯料放入包套并抽真空；采用冷等静压工艺将包套内的第一钼靶材坯料进行第二次致密化处理，形成第二钼靶材坯料；第二次致密化处理后，去除包套，采用感应烧结工艺将第二钼靶材坯料进行第三次致密化处理，形成第三钼靶材坯料；第三次致密化处理后，采用热轧工艺将第三钼靶材坯料进行轧制，形成第四钼靶材坯料；热轧工艺后，对第四钼靶材坯料进行退火处理形成钼靶材。采用本发明提供的钼靶材的制作方法，能够制作出全致密度钼靶材，钼靶材的内部组织结构的均匀性和晶粒尺寸、纯度和表面尺寸满足要求越来越高的溅射工艺。 【专利类型】发明申请 【申请人】宁波江丰电子材料有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】315400 浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路198号 【申请人地区】中国 【申请人城市】宁波市 【申请人区县】余姚市 【申请号】CN201210260409.8 【申请日】2012-07-25 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103567445A 【公开公告日】2014-02-12 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN103567445B 【授权公告日】2016-03-30 【授权公告年份】2016.0 【IPC分类号】B22F3/16; C22F1/18; C23C14/14; C23C14/34 【发明人】姚力军; 相原俊夫; 大岩一彦; 潘杰; 王学泽; 宋佳 【主权项内容】一种钼靶材的制作方法，其特征在于，包括：提供钼粉末；采用静压工艺将钼粉末进行第一次致密化处理，形成第一钼靶材坯料；将所述第一钼靶材坯料放入包套并抽真空；采用冷等静压工艺将包套内的第一钼靶材坯料进行第二次致密化处理，形成第二钼靶材坯料；第二次致密化处理后，去除包套，采用感应烧结工艺将所述第二钼靶材坯料进行第三次致密化处理，形成第三钼靶材坯料；第三次致密化处理后，采用热轧工艺将所述第三钼靶材坯料进行轧制，形成第四钼靶材坯料；热轧工艺后，对第四钼靶材坯料进行退火处理形成钼靶材。 【当前权利人】宁波江丰电子材料股份有限公司 【当前专利权人地址】浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路 【引证次数】6.0 【被引证次数】24 【他引次数】6.0 【被他引次数】24.0 【家族引证次数】6.0 【家族被引证次数】26

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