【摘要】本发明提供一种硅片的抛光方法。所述抛光方法包括以下步骤:S1,将硅片置于一等离子体发生装置中的基片架上;其中所述基片架周围设有用以提供一垂直于所述基片架表面的约束磁场的磁线圈或磁钢;S2,向所述等离子体发生装置中通入反应气体;S3,
【摘要】 本发明主要涉及一种用于制备高透光率高耐候性光学镜片材料的组合物,该组合物由配方量的甲基丙烯酸树脂、乙烯基单体、分子量调节剂以及引发剂、紫外线吸收剂、内脱模剂、调色剂组成;本发明还涉及利用该组合物制备光学元件材料的方法。制得的光学材料透光率大于98%,并且较强的抗紫外线能力和耐候性;制备方法过程简单、成本较低,非常适合大规模的工业化生产。 【专利类型】发明授权 【申请人】江苏明月光电科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】212300 江苏省镇江市丹阳市开发区八纬路 【申请人地区】中国 【申请人城市】镇江市 【申请人区县】丹阳市 【申请号】CN201210161924.0 【申请日】2012-05-23 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102675538B 【公开公告日】2014-07-30 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102675538B 【授权公告日】2014-07-30 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】C08F222/20; C08F220/18; C08F212/08; C08F4/04; C08F220/32; C08F212/36; G02C7/02; G02B1/04; B29C51/00 【发明人】谢公晚; 谢公兴; 朱海峰 【主权项内容】1.用于制备高透光率高耐候性光学镜片材料的组合物,其特征在于,该组合物的组分和按重量计的百分比含量为: 该单体的组合物中还含有下列组合和按重量计的含量: 以上各组分之和为100%; 其中所述的乙氧化双酚A二甲基丙烯酸酯中的乙氧基个数为2-10个,其中所述的聚乙二醇二甲基丙烯酸酯为三乙二醇二甲基丙烯酸酯;所述的乙烯基单体为苯乙烯、甲基苯乙烯和二乙烯基苯中的一种或几种;所述的分子量调节剂为十二烷基硫醇、四溴甲烷和甲基苯乙烯二聚体中的一种或几种; 其中所述的引发剂为偶氮二异丁腈、偶氮二异戊腈和偶氮二异庚腈中的一种或几种的偶氮类引发剂;其中所述的紫外线吸收剂为2-(2'-羟基-5'-叔辛基苯基)苯并三唑、2-(3’-叔丁基-2’-羟基-5’-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2’-羟基-3’5’-二叔丁基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2'-羟基-5'-甲基苯基)苯并三唑、2, 4-二羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羟基-4-苄氧基二苯甲酮、2, 2’-二羟基-4-甲氧基二苯甲酮和2-二羟基-4-正辛氧基二苯甲酮中的一种或几种。 【当前权利人】明月镜片股份有限公司 【当前专利权人地址】江苏省镇江市丹阳开发区银杏路9号 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股) 【统一社会信用代码】91321181742468227M 【引证次数】3.0 【他引次数】3.0 【家族引证次数】6.0 【家族被引证次数】17
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