【摘要】 本发明公开了一种锆合金的电化学抛光液配方及其抛光方法，该配方由高氯酸、无水乙酸和丙酸组成，为无水配方。本配方不但可以在室温下有效地去除锆合金表面的细小划痕、砂纸打磨过程中的杂质等，从而得到良好的抛光表面而且还具有实用性强、效率高、溶液使用寿命长等优点。该配方可适用于不同组分、不同形状的锆合金。利用该配方的电化学抛光可以作为锆合金溅射或者电镀等操作的表面预处理，同时也可以用于锆合金器件的终处理，应用范围广泛。 【专利类型】发明授权 【申请人】浙江大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号 【申请人地区】中国 【申请人城市】杭州市 【申请人区县】西湖区 【申请号】CN201210131781.9 【申请日】2012-05-02 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102634840B 【公开公告日】2014-08-13 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102634840B 【授权公告日】2014-08-13 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】C25F3/26 【发明人】蒋建中; 聂西鹏; 吴振福 【主权项内容】1.一种锆合金电化学抛光方法，其特征在于该方法的步骤如下：(1)预处理：依次用400目、600目、800目、1000目以及1200目的碳化硅砂纸打磨工件，并按顺序用丙酮、无水乙醇和去离子水超声波清洗；(2)配制电解液：以无水乙酸作溶剂，量取无水乙酸900 ml, 丙酸100 ml，并混合成溶液；然后量取高氯酸5～7 ml在搅拌的同时滴加到乙酸和丙酸的混合液中，上述原料均为分析纯级；(3)电化学抛光：将工件作为阳极，纯钛片作阴极，浸没于电解液中，开启磁力搅拌并接通直流稳压电源进行电化学抛光；(4)经电抛光后合金表面的轮廓算术平均偏差达到17 nm，微观不平度高度十点高度23 nm，均方根粗糙度21 nm或经电抛光后合金表面的轮廓算术平均偏差达到55 nm，微观不平度高度十点高度79 nm，均方根粗糙度64 nm；所用电流密度为0.3～0.5 A cm2；工件与纯钛片阴极的间距为30 mm。 【当前权利人】浙江大学 【当前专利权人地址】浙江省杭州市西湖区浙大路38号 【专利权人类型】公立 【统一社会信用代码】12100000470095016Q 【引证次数】4.0 【他引次数】4.0 【家族引证次数】6.0 【家族被引证次数】7

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