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一种光学滤波器专利

时间:2026-10-08    作者:admin 点击: ( 2 ) 次

【摘要】 本发明公开了一种光学滤波器,包括基片以及设置在所述基片两侧的光学膜,所述基片为蓝塑料基片,采用蓝塑料基片取代蓝玻璃基片,能够降低生产成本、减轻产品重量、减小产品体积以及提高产品的成品率。在优选的技术方案中,为了提高基片与基片两侧的光学膜之间的附着性,所述基片与光学膜之间设有HfO2过渡层。为了改善蓝塑料基片的变形,所述光学膜为设置在基片一侧的隔红外滤光膜以及设置在基片另一侧的隔红外-紫外滤光膜。本发明光学滤波器成本低、重量轻、体积小,可广泛用于图像芯片面积较小的卡片式相机、手机摄像头和监控监测系统等,特别是目前正在快速增长的智能手机。 【专利类型】发明授权 【申请人】杭州科汀光学技术有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】311100 浙江省杭州市余杭经济开发区天荷路21号 【申请人地区】中国 【申请人城市】杭州市 【申请人区县】余杭区 【申请号】CN201210269188.0 【申请日】2012-07-31 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102759768B 【公开公告日】2014-12-31 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102759768B 【授权公告日】2014-12-31 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】G02B5/26; B32B27/06; B32B9/04 【发明人】艾曼灵; 金波; 顾培夫; 寇立选; 张兰; 潘帅 【主权项内容】一种光学滤波器,包括基片以及设置在所述基片两侧的光学膜,其特征在于,所述基片为蓝塑料基片,所述蓝塑料基片的厚度为0.05mm~0.2mm,所述基片与光学膜之间设有HfO2过渡层,所述HfO2过渡层的厚度为8nm~20nm;所述光学膜为设置在基片一侧的隔红外滤光膜以及设置在基片另一侧的隔红外-紫外滤光膜,所述隔红外滤光膜由TiO2高折射率膜层和SiO2低折射率膜层交替构成,所述隔红外-紫外滤光膜由SiO2低折射率膜层和TiO2高折射率膜层交替构成;所述隔红外滤光膜中的TiO2高折射率膜层和SiO2低折射率膜层总共为20~28层,所述隔红外滤光膜中的TiO2高折射率膜层厚度为75nm~95nm,所述隔红外滤光膜中的SiO2低折射率膜层厚度为140nm~155nm;所述隔红外-紫外滤光膜中的SiO2低折射率膜层和TiO2高折射率膜层总共为17~21层,所述隔红外-紫外滤光膜中的SiO2低折射率膜层厚度为90nm~191nm,所述隔红外-紫外滤光膜中的TiO2高折射率膜层厚度为98nm~116nm。 【当前权利人】杭州科汀光学技术有限公司 【当前专利权人地址】浙江省杭州市余杭经济开发区天荷路21号 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股) 【统一社会信用代码】91330100609136194M 【引证次数】8.0 【被引证次数】1 【自引次数】2.0 【他引次数】6.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】8.0 【家族被引证次数】13

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