【摘要】 一种高纯铜靶材的制备方法，包括：首先对高纯铜锭进行预热；接着对所述预热过程中的高纯铜锭进行锻打之后并进行第一次热处理；然后对经第一次热处理后的高纯铜锭进行压延，形成铜板料并进行第二次热处理，形成铜靶材坯料；最后对所述铜靶材坯料进行机械加工，形成高纯铜靶材。采用本发明的技术方案，可以制作出晶粒尺寸小于100微米且溅射方向较佳的高纯铜靶材。 【专利类型】发明申请 【申请人】宁波江丰电子材料有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】315400 浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路198号 【申请人地区】中国 【申请人城市】宁波市 【申请人区县】余姚市 【申请号】CN201210223059.8 【申请日】2012-06-27 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103510055A 【公开公告日】2014-01-15 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN103510055B 【授权公告日】2015-10-21 【授权公告年份】2015.0 【IPC分类号】C23C14/34; C22F1/08 【发明人】姚力军; 相原俊夫; 大岩一彦; 潘杰; 王学泽; 高建 【主权项内容】一种高纯铜靶材的制备方法，其特征在于，包括：对高纯铜锭进行预热；对所述预热过程中的高纯铜锭进行锻打；对经锻打的所述高纯铜锭进行第一次热处理；对经第一次热处理后的高纯铜锭进行压延，形成铜板料；对所述铜板料进行第二次热处理，形成铜靶材坯料；对所述铜靶材坯料进行机械加工，形成高纯铜靶材。 【当前权利人】宁波江丰电子材料股份有限公司 【当前专利权人地址】浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路 【引证次数】4.0 【被引证次数】28 【自引次数】1.0 【他引次数】3.0 【被他引次数】28.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】31

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