【摘要】一种制备多孔球状氧化亚锡纳米材料的方法,将配制好的一定量的氢氧化钠无水乙醇溶液缓慢滴入氯化亚锡的无水乙醇溶液中,边滴加边进行搅拌,滴加结束后继续搅拌10-20min,即得到氧化亚锡前驱液;所得氧化亚锡前驱液中控制二水合氯化亚锡摩尔浓
【摘要】 本发明公开了一种单片电平生成集成电路。该电路包括差动放大电路和输出级;所述差动放大电路包括P型第一MOS管、第二MOS管,N型第四MOS管、第五MOS管、第六MOS管;所述输出级包括P型第三MOS管,N型第七MOS管、第八MOS管、第九MOS管。该专用的单片电平生成集成电路能够生成精度较高也较稳定的电平。。 【专利类型】发明申请 【申请人】郑州单点科技软件有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】450016 河南省郑州市经济技术开发区第八大街信息产业园1228室 【申请人地区】中国 【申请人城市】郑州市 【申请人区县】管城回族区 【申请号】CN201210340972.6 【申请日】2012-09-16 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103677036A 【公开公告日】2014-03-26 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】G05F1/56 【发明人】桑园; 王晓娟; 王纪云 【主权项内容】1.一种单片电平生成集成电路,包括差动放大电路和输出级,其特征在于:所述差动放大电路包括P型第一MOS管(M1)、第二MOS管(M2),N型第四MOS管(M4)、第五MOS管(M5)、第六MOS管(M6);所述输出级包括P型第三MOS管(M3),N型第七MOS管(M7)、第八MOS管(M8)、第九MOS管(M9);差动放大器的第一MOS管(M1)的漏极、源极和栅极分别连接到第四MOS管(M4)的漏极、递升电压(VPP)以及第二MOS管(M2)的栅极和第一MOS管(M1)的漏极;第二MOS管(M2)的漏极、源极和栅极分别连接到第五MOS管(M5)的漏极、递升电压(VPP)和第一MOS管(M1)的栅极;第四MOS管(M4)的漏极、源极和栅极分别连接到第一MOS管(M1)的漏极、第六MOS管(M6)的漏极以及第八MOS管(M8)的源极和第九MOS管(M9)的漏极;第五MOS管(M5)的漏极、源极和栅极分别连接到第二MOS管(M2)的漏极、第六MOS管(M6)的漏极和偏移电压(Voffset);第六MOS管(M6)的漏极、源极和栅极分别连接到第四MOS管(M4)和第五MOS管(M5)的源极、内电源电压(VBB)以及偏压(Bias);所述输出级的第三MOS管(M3)的漏极、源极和栅极分别连接到第七MOS管(M7)的漏极、外电源电压(VDD)和第二MOS管(M2)的漏极;第七MOS管(M7)的漏极、源极和栅极分别连接到第三MOS管(M3)的漏极、第八MOS管(M8)的漏极和第七MOS管(M7)的漏极;第八MOS管(M8)的漏极、源极和栅极分别连接到第七MOS管(M7)的源极、第九MOS管(M9)的漏极和第八MOS管(M8)的漏极;第九MOS管(M9)的漏极、源极和栅极分别连接到第八MOS管(M8)的源极、内电源电压(VBB)和偏压(Bias);电平输出(VHL)连接第三MOS管(M3)的漏极、第七MOS管(M7)的漏极和栅极。。 【当前权利人】郑州单点科技软件有限公司 【当前专利权人地址】河南省郑州市经济技术开发区第八大街信息产业园1228室 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股) 【统一社会信用代码】914101007967915487
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