【摘要】 一种增强X线防护的光子晶体防护玻璃，由重金属X线防护玻璃层和光子晶体层组成，光子晶体层由14层Ge介质层和14层BaF2介质层相互交替叠加构成(GeBaF2)m(GeBaF2)n型复合结构，其中m=6，n=8，(GeBaF2)m表示m层Ge和m层BaF2交替叠加构成的复合介质层，调整参数使X线波长在设计的复合一维光子晶体的禁带范围内，大大提高了重金属X线防护玻璃的防辐射能力。 【专利类型】发明授权 【申请人】河南科技大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】471000 河南省洛阳市涧西区西苑路48号 【申请人地区】中国 【申请人城市】洛阳市 【申请人区县】涧西区 【申请号】CN201210157904.6 【申请日】2012-05-21 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102664051B 【公开公告日】2014-12-17 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102664051B 【授权公告日】2014-12-17 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】G21F1/12; C03C17/36 【发明人】李萍; 雷万军; 胡志刚; 乔晓岚; 宋霄薇; 李光大; 赵鹏; 杨超 【主权项内容】1.一种增强X线防护的光子晶体防护玻璃制作方法，其特征在于：防护玻璃由重金属X线防护玻璃层(2)和光子晶体层(1)组成，光子晶体层(1)由14层Ge介质层和14层BaF2介质层相互交替叠加构成(Ge BaF2)m(Ge BaF2)n型复合结构，其中m=6，n=8，(Ge BaF2)m表示m层Ge和m层BaF2交替叠加构成的复合介质层，其中Ge介质层的厚度为248.45nm，BaF2介质层的厚度为741.38nm，该复合介质层设置在光子晶体层(1)的内侧，并与重金属X线防护玻璃层(2)连接；(Ge BaF2)n表示n层Ge和n层BaF2交替叠加构成的复合介质层，其中Ge介质层的厚度为388.16nm，BaF2介质层的厚度为1068.48nm，该复合介质层设置在光子晶体层(1)的外侧; 其中，增强X线防扩的光子晶体防护玻璃制作方法包括以下步骤： 步骤一、取一个f36mm的平板形重金属X线防护玻璃，作为基板，将基板双面抛光，立边抛光，四边有工艺倒角，备用； 步骤二、将加工好的基板表面进行清洁化处理，采用酸性清洗液和去离子水分别清洗基板，然后将基板置于热板上烘干，温度为65°，时间10分钟； 步骤三、将基板放入真空镀膜机，在其一个表面上进行介质材料锗的镀膜，镀膜厚度为248.45nm，镀膜后干燥冷却30分钟，然后在基板镀有锗镀膜层的表面进行介质材料氟化钡的镀膜，镀膜厚度为741.38nm，镀膜后干燥冷却30分钟； 步骤四、按照步骤三的方法交替进行锗和氟化钡镀膜，直至镀好m层锗镀膜层和m层氟化钡镀膜层，其中m=6, 在基板上形成结构为(Ge BaF2)m的光子晶体复合镀膜层； 步骤五、将步骤四镀有(Ge BaF2)m光子晶体复合镀膜层的基板表面上继续进行介质材料锗的镀膜，厚度为388.16nm，镀膜后干燥冷却30分钟；然后在新镀好的锗镀膜层上再进行介质材料氟化钡的镀膜，镀膜厚度为1068.48nm，镀膜后干燥冷却30分钟； 步骤六、按照重复步骤五的方法交替进行锗和氟化钡镀膜，包括步骤五所镀的锗和氟化钡镀膜层，共分别进行n次锗和氟化钡的镀膜，n=8，镀膜完成后干燥冷却30分钟，即制成表面设有(Ge BaF2)m(Ge BaF2)n型光子晶体结构的光子晶体防护玻璃。 【当前权利人】河南科技大学 【当前专利权人地址】河南省洛阳市涧西区西苑路48号 【专利权人类型】公立 【统一社会信用代码】124100004165265089 【引证次数】6.0 【自引次数】1.0 【他引次数】5.0 【家族引证次数】6.0 【家族被引证次数】2

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