【摘要】 本发明介绍了一种离子沉积实现ITO靶材背面金属化的方法，将铟制成铟靶；ITO靶材经过超声清洗烘干后，安装固定在多弧离子镀膜机的工件架上；偏压清洗后，启动多弧离子镀膜功能，在ITO表面沉积一层金属铟薄膜；镀膜工艺温度100~150℃，电压20~80V，电流0.1~0.6A，时间5~15min，氩气压强0.3~1Pa；降温取出清洗靶材，即可获得表面已经均匀金属化处理的ITO靶材。本发明方法简单，通过多弧离子沉积就可以实现ITO靶材背面金属化，然后就可以钎焊实现组件的生产；金属化层结合力高、速度快，不产生污染、不引入其它金属杂质有利于靶材回收。 【专利类型】发明授权 【申请人】中国船舶重工集团公司第七二五研究所 【申请人类型】企业 【申请人地址】471023 河南省洛阳市洛龙区滨河南路169号 【申请人地区】中国 【申请人城市】洛阳市 【申请人区县】洛龙区 【申请号】CN201210542532.9 【申请日】2012-12-14 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103031524B 【公开公告日】2014-11-05 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN103031524B 【授权公告日】2014-11-05 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】C23C14/32; C23C14/18 【发明人】薛建强; 郗雨林; 王政红 【主权项内容】1.一种离子沉积实现ITO靶材背面金属化的方法，包括使用多弧离子镀膜机，采用多弧离子法，其特征是具体过程为： 将纯度为4N的99.99％金属铟加热熔化，浇铸到表面光滑的石墨模具中，制作成金属铟靶，表面用丙酮清洗后固定在靶基座上； ITO靶材经过草酸、丙酮和纯净水超声清洗烘干后，安装固定在多弧离子镀膜机上，把要处理的ITO靶材放在多弧离子镀膜机的真空腔室工件架上；先预抽真空到5×10－4Pa，加热到温度100 ~ 150℃后，充入氩气到一定压力后准备镀膜； 首先经过5~ 10min的200V负电压偏压清洗后，启动多弧离子镀膜机，在ITO表面沉积一层金属铟薄膜； 当真空腔室温度降温到60℃以下取出并清洗靶材表面，即可获得表面已经均匀金属化处理的ITO靶材； 镀膜工艺参数范围如下：温度为100 ~ 150℃，电压为20 ~ 80V，电流0.1 ~ 0.6A，时间5 ~ 15min，氩气压强为0.3 ~ 1Pa。 【当前权利人】中国船舶重工集团公司第七二五研究所 【当前专利权人地址】河南省洛阳市洛龙区滨河南路169号 【专利权人类型】国有企业 【统一社会信用代码】91410307MA3X4HHL0N 【引证次数】10.0 【被引证次数】1 【他引次数】10.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】10.0 【家族被引证次数】10

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