【摘要】 本发明公开一种在常温弱碱性条件下制备强还原性二氧化硫脲溶液的方法，先配制一定浓度的二氧化硫脲溶液，再分别加入一定量的碘代烷、胺类和腐植酸钠，后搅拌并将混合溶液置于超声波振荡器中催化反应一定时间，即得到在常温、弱碱性条件下还原电位达到-800mV～-1000mV的二氧化硫脲溶液，比未活化的二氧化硫脲溶液的还原电位高出300～700mV，达到了其在加热和强碱性条件下的还原电位值。可以摆脱目前二氧化硫脲需在加热和强碱性条件下才能获得强还原性的限制，极大的扩大二氧化硫脲的应用范围，降低其应用成本，因此具有广阔的市场空间。 【专利类型】发明授权 【申请人】景德镇陶瓷学院 【申请人类型】学校 【申请人地址】333001 江西省景德镇市陶阳南路27号 【申请人地区】中国 【申请人城市】景德镇市 【申请人区县】珠山区 【申请号】CN201210529875.1 【申请日】2012-12-11 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102976286B 【公开公告日】2014-07-16 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102976286B 【授权公告日】2014-07-16 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】C07C381/14; C01B17/98 【发明人】夏光华; 谭训彦; 赵晓东 【主权项内容】一种在常温弱碱性条件下制备强还原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于：包括以下步骤：第一步：先将二氧化硫脲加入水中配制二氧化硫脲溶液；第二步：将碘代烷、胺类、腐植酸钠加入到第一步配制的二氧化硫脲溶液中；第三步：将第二步的混合溶液经搅拌后，置于超声波振荡器中进行催化反应后，获得强还原性的二氧化硫脲溶液；所述第一步配制的二氧化硫脲溶液的质量百分比浓度为3～10%；所述第二步中的碘代烷为CH3I或CH2I2；所述第二步中的胺类为氨水、甲胺或乙二胺；所述第二步中的碘代烷添加量为二氧化硫脲质量的0.1～2%；所述第二步中的胺类的添加量为二氧化硫脲质量的0.2～3%；所述第二步中的腐植酸钠的添加量为二氧化硫脲质量的0.1～1%。。数据由整理 【当前权利人】景德镇陶瓷学院 【当前专利权人地址】江西省景德镇市陶阳南路27号 【引证次数】3.0 【被引证次数】2 【他引次数】3.0 【被自引次数】1.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】3.0 【家族被引证次数】3

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