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一种可紫外光固化的耐高温、耐腐蚀的有机硅二氧化硅杂化涂层的制备方法专利

时间:2026-10-03    作者:admin 点击: ( 4 ) 次

【摘要】 一种可紫外光固化的耐高温、耐腐蚀的有机硅/二氧化硅杂化涂层的制备方法,该涂层以正硅酸乙酯作为无机相前驱体,甲基三乙氧基硅烷和二苯基二甲氧基硅烷作为有机相前驱体,并加入γ-甲基丙烯酰氧基硅烷和自由基型光引发剂的混合液,通过溶胶-凝胶法制备出可紫外光固化的有机硅/二氧化硅杂化溶胶。在基材上涂膜后经紫外光固化30s~300s得到有机硅/二氧化硅杂化涂层,形成以Si-O-Si键为骨架的杂化凝胶空间网络结构。本发明的技术效果是,经过紫外光固化后的杂化涂层,形成了更为致密的网络结构,有利于综合性能的提高,尤其有利于耐蚀性的提高,更致密的网络结构可以更好地形成物理“屏障”来阻止水、化学试剂等腐蚀性物质与基体的接触。 【专利类型】发明授权 【申请人】南昌航空大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】330000 江西省南昌市红谷滩新区丰和南大道696号 【申请人地区】中国 【申请人城市】南昌市 【申请人区县】新建区 【申请号】CN201210010995.0 【申请日】2012-01-16 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102585700B 【公开公告日】2014-07-23 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102585700B 【授权公告日】2014-07-23 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】C09D183/07; C09D7/12; C09D5/08; C08G77/20 【发明人】刘光明; 杨晓东; 于斐; 林继月 【主权项内容】1.一种可紫外光固化的耐高温、耐腐蚀的有机硅/二氧化硅杂化涂层的制备方法,其制备所需原料为:正硅酸乙酯,甲基三乙氧基硅烷,二苯基二甲氧基硅烷,无水乙醇,盐酸,蒸馏水,γ-甲基丙烯酰氧基硅烷,自由基型光引发剂,其特征在于制备方法为:在室温下按计量数将无水乙醇、盐酸和蒸馏水依次滴加至定量的正硅酸乙酯中,反应5min~85min后再依次加入定量的甲基三乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷以及γ-甲基丙烯酰氧基硅烷和自由基型光引发剂的混合液,反应25min~3h后加热至50~80℃,冷凝回流1h~6h得到无色透明的可紫外光固化的有机硅/二氧化硅杂化溶胶,冷至室温后密封静置备用,将密封静置的杂化溶胶用刷涂法在基体上进行涂膜,待溶剂挥发后进行紫外光固化得到有机硅/二氧化硅杂化涂层;所述各原料加入量摩尔比为:正硅酸乙酯:甲基三乙氧基硅烷:二苯基二甲氧基硅烷:γ-甲基丙烯酰氧基硅烷=0.001~500:0.001~500: 0.001~200:0.001~200;无水乙醇:蒸馏水:盐酸:Si=0.001~500:0~100:0.0001~50:0.01~1000,其中的Si表示正硅酸乙酯、甲基三乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基硅烷加入量的总摩尔数;光引发剂的加入量为固含量的0.1%~10%。 【当前权利人】南昌航空大学 【当前专利权人地址】江西省南昌市红谷滩新区丰和南大道696号 【统一社会信用代码】12360000491012291R 【引证次数】2.0 【他引次数】2.0 【家族引证次数】2.0 【家族被引证次数】16

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