【摘要】本发明公开一种用于高粘性胶带的制备方法,包括以下步骤:将100份石墨粉与第一步稀释物混合均匀,并在84~86℃条件搅拌形成混合液,此石墨粉直径为5.8~6微米;将0.1份交联剂与60~70份甲苯、145~150份乙酸乙酯和60~70
【摘要】 本发明公开了一种光学加工系统,包括:加工平台,实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动;空间光调制器,产生设计图形;投影光学系统,包括第一透镜组、第二透镜组和滤波器,所述滤波器设于所述第一透镜组和第二透镜组之间且位于所述第一透镜组的频谱面上。申请的光学加工系统和方法实现的灰度等级不依赖于曝光时间和曝光次数,可以在极短曝光时间内和单次曝光的条件下实现准确的灰度等级,因而完全适用于飞行曝光加工方式,加工效率和定位精度高。 【专利类型】发明授权 【申请人】苏州大学; 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 【申请人类型】企业,学校 【申请人地址】215123 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请号】CN201210114482.4 【申请日】2012-04-18 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102621824B 【公开公告日】2014-04-30 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102621824B 【授权公告日】2014-04-30 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】G03F7/20 【发明人】胡进; 浦东林; 陈林森 【主权项内容】一种光学加工系统,其特征在于,包括:加工平台,实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动;空间光调制器,产生设计图形;投影光学系统,包括第一透镜组、第二透镜组和滤波器,所述滤波器设于所述第一透镜组和第二透镜组之间且位于所述第一透镜组的频谱面上,所述设计图形通过所述投影光学系统以一定的放大倍率投影至位于加工平台上的待加工物表面上,并实现曝光,所述空间光调制器由多个图块构成,每个图块用以显示一定周期和占空比的图像,所述图像形成所述设计图形的一部分,每个图块可以产生不同的灰度曝光图形。 【当前权利人】苏州大学; 苏州苏大维格科技集团股份有限公司; 苏大维格(盐城)光电科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省苏州市吴中区石湖西路188号; 江苏省苏州市工业园区新昌路68号; 江苏省盐城市大丰区经济开发区西康南路61号 【专利权人类型】; 股份有限公司(上市) 【统一社会信用代码】123200004660073435; 913200007325123786 【家族引证次数】3.0
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