【摘要】 本发明公开了一种微型电容式力学传感器及其制备方法，属于微机电系统领域。该微型电容式力学传感器包括衬底、导电支撑柱、固定电极、固态介电层、可动电极和弹性导电支撑结构。固定电极和导电支撑柱固置于衬底上，固态介电层设置于固定电极上，可动电极通过导电支撑柱的支撑保持悬空，固态介电层与可动电极之间的悬空区域形成空气介电层。本发明采用固态介电层与空气介电层复合的双介电层结构，可以通过调节微型电容值的变化范围，适用于不同领域的测量，具有灵敏度高，动态性能好，能量损耗小，制备成本低的特点，并且能够适应较为恶劣的环境。 ： 【专利类型】发明授权 【申请人】中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】215123 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请号】CN201210044921.9 【申请日】2012-02-27 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102589760B 【公开公告日】2014-04-16 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102589760B 【授权公告日】2014-04-16 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】G01L1/14; B81B7/02; B81C1/00 【发明人】张珽; 刘瑞 【主权项内容】1.一种微型电容式力学传感器的制作方法，其特征在于; 它包括以下步骤：Ⅰ、在清洗好的衬底上溅射金属种子层；所述金属种子层的材料为Cr/Cu或Cr/Au，厚度为800～1000?；Ⅱ、应用光刻工艺在金属种子层上实现固定电极和导电支撑柱的光刻胶结构图形化；Ⅲ、使用电镀工艺在光刻胶结构图形化后的金属种子层上形成固定电极和导电支撑柱；Ⅳ、应用光刻工艺在固定电极上，实现固态介电层的光刻胶结构图形化；Ⅴ、在光刻胶结构图形化后的固定电极上，应用金属溅射工艺形成固态介电层；所述的固态介电层的厚度为0.1-2微米；所述的固态介电层的材料为可蒸镀或溅射的介电材料，包括Al2O3、SiO2或BaTiO3中的任意一种；Ⅵ、在溅射完成固态介电层的衬底上，涂覆厚度为5-20微米正性光刻胶；Ⅶ、步骤Ⅵ所涂覆的光刻胶经过前烘固化之后，再重复步骤A的工艺，在光刻胶上溅射金属种子层；Ⅷ、应用光刻工艺在金属种子层上实现可动电极和柔性导电支撑梁的光刻胶结构图形化；Ⅸ、在图形化后的金属种子层上，使用电镀工艺形成可动电极和柔性导电支撑梁；Ⅹ、采用湿法腐蚀工艺去除前述步骤中的光刻胶和金属种子层，释放出悬空结构，得到目标产物。 （，） 【当前权利人】中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 【当前专利权人地址】江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号 【统一社会信用代码】12100000717826387T 【引证次数】1.0 【被引证次数】2 【他引次数】1.0 【被他引次数】2.0 【家族引证次数】10.0 【家族被引证次数】13

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