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一种微波辅助降解硅纳米线制备硅纳米颗粒的方法专利

时间:2026-09-29    作者:admin 点击: ( 1 ) 次

【摘要】 一种微波辅助降解硅纳米线制备硅纳米颗粒的方法,将硅晶片置于丙酮中超声,超纯水清洗后,放入浓硫酸或浓硝酸和5vol%~30vol%双氧水混合溶液中除杂,再用超纯水清洗,得干净的硅晶片,置入5vol%~40vol%氟化氢溶液中,得表面覆盖大量硅-氢键的硅晶片,放入0.1M~1M的硝酸银或氯金酸和10vol%~40vol%氟化氢的混合溶液中,缓慢振荡,取出后放入10vol%氟化氢和1vol%双氧水混合溶液中,得硅纳米线阵列,超声,离心收集硅纳米线,分散于超纯水中,得前体溶液,溶于去离子水,微波辐射断裂成硅纳米颗粒。所得的硅纳米颗粒有较好的单分散性,尺寸均匀,可以作为载体用于生物检测和分析。 【专利类型】发明授权 【申请人】苏州大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】215123 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请号】CN201210374902.2 【申请日】2012-09-27 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102849739B 【公开公告日】2014-08-27 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102849739B 【授权公告日】2014-08-27 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】C01B33/021; B82Y30/00 【发明人】何耀; 钟旖菱; 李述汤 【主权项内容】一种微波辅助降解硅纳米线制备硅纳米颗粒的方法,包括以下步骤:a、氟化氢辅助刻蚀制备硅纳米线:将硅晶片置于丙酮溶液中超声,用超纯水清洗多次后,放入浓硫酸或浓硝酸和5vol%~30vol%双氧水混合溶液中除去表面的污染杂质,再用超纯水清洗多次,得到干净的硅晶片;将清洗干净的硅晶片置入5vol%~40vol%氟化氢溶液中进行硅-氢化反应,得到表面覆盖大量硅-氢键的硅晶片;将经过上述处理后所得到的硅晶片放入0.1M~1M的硝酸银或氯金酸和10vol%~40vol%氟化氢的混合溶液中,缓慢振荡一定时间,取出后再放入10vol%氟化氢和1vol%双氧水混合溶液中反应,得到硅纳米线阵列;利用超声将硅纳米线从硅片中超声下来,通过离心将硅纳米线进行收集,分散于超纯水中,得硅纳米线前体溶液;b、微波辐射制备硅纳米颗粒:将步骤a中制备所得到的硅纳米线溶液进行微波辐射加热,得到硅纳米颗粒。 【当前权利人】苏州大学 【当前专利权人地址】江苏省苏州市工业园区仁爱路199号 【统一社会信用代码】123200004660073435 【引证次数】2.0 【他引次数】2.0 【家族引证次数】2.0 【家族被引证次数】2

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