【摘要】 本发明涉及微纳光子器件与激光技术领域。本发明提供一种等离子激元纳米激光器，包括一第一介质层、一第一隔离层、和一增益介质腔体，所述第一隔离层置于所述第一介质层的裸露表面上，所述增益介质腔体置于所述第一隔离层的裸露表面上，其特征在于，所述第一隔离层的厚度与所述增益介质腔体的纵向厚度的比值范围为小于0.5。本发明提供的一种等离子激元纳米激光器，优点在于，减少了激光的阈值。。 【专利类型】发明授权 【申请人】中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所; 苏州纳维科技有限公司 【申请人类型】企业,科研单位 【申请人地址】215125 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请人区县】吴中区 【申请号】CN201210060948.7 【申请日】2012-03-09 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102664350B 【公开公告日】2014-06-11 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102664350B 【授权公告日】2014-06-11 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】H01S5/34; H01S5/20; B82Y20/00 【发明人】黄增立; 王建峰; 徐科; 杨辉 【主权项内容】1.一种等离子激元纳米激光器，包括一第一介质层、一第一隔离层、和一增益介质腔体，所述第一隔离层置于所述第一介质层的裸露表面上，所述增益介质腔体置于所述第一隔离层的裸露表面上，其特征在于，所述第一隔离层的厚度与所述增益介质腔体的纵向厚度的比值范围为小于0.5； 还包括基底层、一第二介质层、一第二隔离层和一第三隔离层；所述第一介质层置于所述基底层的裸露表面上；所述第二介质层包裹所述增益介质腔体的侧壁，且与所述第三隔离层的裸露表面接触；所述第二隔离层介于所述第二介质层与所述增益介质腔体的侧壁之间，且与所述第一介质层的裸露表面接触；所述第三隔离层介于所述第二介质层与所述第一介质层之间，且与所述第二隔离层的远离所述增益介质腔体的表面相接触。 【当前权利人】中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所; 苏州纳维科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号; 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区20幢518室 【专利权人类型】; 有限责任公司 【统一社会信用代码】12100000717826387T; 913205946617787769 【引证次数】9.0 【他引次数】9.0 【家族引证次数】9.0 【家族被引证次数】8

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