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金属表面镀制类金刚石薄膜的方法专利

时间:2026-09-26    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明公开了一种金属表面镀制类金刚石薄膜的方法,主要步骤是:(1)超声波清洗,抽真空;(2)离子清洗,通入氩气,开启离子清洗源,产生大量氩离子对工件表面进行轰击;(3)将金属工件和真空室之间加载负偏压,开启钛电弧源使金属工件表面沉积钛过渡层;(4)通入氮气,使金属工件表面沉积氮化钛过渡层;(5)开启脉冲电弧放电,向镀膜室内通入碳氢化合物气体,由脉冲放电形成的碳离子和碳的高能中性原子与碳氢化合物气体分子碰撞,生成新的碳离子飞向工件表面形成类金刚石薄膜。本发明通过沉积过渡层的办法较好地提高了类金刚石薄膜与金属材料匹配性,使得类金刚石薄膜能较好的附着于金属表面,薄膜厚度可达1μm。 【专利类型】发明申请 【申请人】陈伟 【申请人类型】个人 【申请人地址】225500 江苏省姜堰市姜堰镇罗塘东路112号 【申请人地区】中国 【申请人城市】泰州市 【申请人区县】姜堰区 【申请号】CN201210227099.X 【申请日】2012-06-29 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103510053A 【公开公告日】2014-01-15 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】C23C14/32; C23C14/06; C23C14/02 【发明人】陈伟 【主权项内容】一种金属表面镀制类金刚石薄膜的方法,采用以石墨为阴极电极的脉冲电弧放电和分解离化碳氢化合物气体的混合物理化学气相沉积法在金属表面进行类金刚石薄膜的沉积,其特征是其操作步骤是:(1)超声波清洗,将工件经常规超声波清洗并烘干后,及时放置在镀膜室内的旋转支架并抽真空;(2)离子清洗,向镀膜室内通入氩气,开启离子清洗源,离子源工作电压为2000~2500V,工作时间为10min~30min,产生大量氩离子对工件表面进行轰击;(3)将金属工件和真空室之间加载负偏压,开启钛电弧源使金属工件表面沉积钛过渡层;(4)将氮气通入真空室,并保持真空度的稳定,使金属工件表面沉积氮化钛过渡层;(5)开启以石墨为阴极电极的脉冲电弧放电,向镀膜室内通入碳氢化合物气体,由脉冲放电形成的碳离子和碳的高能中性原子与碳氢化合物气体分子碰撞,生成新的碳离子飞向工件表面形成类金刚石薄膜。。该数据由<>整理 【当前权利人】陈伟 【当前专利权人地址】江苏省姜堰市姜堰镇罗塘东路112号 【被引证次数】10 【被他引次数】10.0 【家族被引证次数】10

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