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耗尽型功率半导体器件及其制造方法专利

时间:2026-10-10    作者:admin 点击: ( 2 ) 次

【摘要】 本发明提供了一种耗尽型功率半导体器件及其形成方法,所述器件包括:半导体衬底;位于所述半导体衬底上的第一掺杂类型的外延层;形成于所述外延层内的第二掺杂类型的阱区,所述第二掺杂类型与所述第一掺杂类型相反,所述阱区的表面具有第一掺杂类型的反型层;依次位于所述外延层上的栅介质层和栅电极,所述阱区横向延伸至所述栅电极下方的距离为0.75×Xj+b,其中Xj为所述阱区的结深,-2μm≤b≤5μm。本发明工艺制程简单、成本低、阈值电压可控性好。。 【专利类型】发明授权 【申请人】杭州士兰微电子股份有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】310012 浙江省杭州市黄姑山路4号 【申请人地区】中国 【申请人城市】杭州市 【申请人区县】西湖区 【申请号】CN201210253510.0 【申请日】2012-07-20 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102751332B 【公开公告日】2014-11-12 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102751332B 【授权公告日】2014-11-12 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】H01L29/78; H01L29/06; H01L21/336; H01L21/265 【发明人】叶俊; 张邵华; 李敏 【主权项内容】一种耗尽型功率半导体器件,其特征在于,包括:半导体衬底;位于所述半导体衬底上的第一掺杂类型的外延层;形成于所述外延层内的第二掺杂类型的阱区,所述第二掺杂类型与所述第一掺杂类型相反,所述阱区的表面具有第一掺杂类型的反型层;依次位于所述外延层上的栅介质层和栅电极,所述阱区横向延伸至所述栅电极下方的距离为0.75×Xj+b,其中Xj为所述阱区的结深,-2μm≤b≤5μm。 【当前权利人】杭州士兰微电子股份有限公司 【当前专利权人地址】浙江省杭州市黄姑山路4号 【专利权人类型】其他股份有限公司(上市) 【统一社会信用代码】91330000253933976Q 【引证次数】8.0 【自引次数】1.0 【他引次数】7.0 【家族引证次数】8.0 【家族被引证次数】12

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