【摘要】 本发明公开了一种10560纳米带通红外滤光片及其制作方法，采用尺寸为Φ25.4×0.5mm的单晶锗Ge作基板；其表面光圈N≤5，局部光圈ΔN≤0.5，平行度θ≤1’；镀膜材料选择硫化锌ZnS和单晶锗Ge，在基板两个表面上分别沉积主膜系面薄膜：Sub|HLHLH2LHLHLHLHLH2LHLHL|Air和干涉截止膜系面薄膜：Sub|0.76(0.5HL0.5H)50.5(0.5HL0.5H)50.35(0.5HL0.5H)50.25(0.5HL0.5H)60.16(0.5HL0.5H)6|Air。本发明方法得到的10560纳米带通红外滤光片，峰值透过率可达90%以上，极大的提高信噪比。 微信 【专利类型】发明授权 【申请人】杭州麦乐克电子科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】310000 浙江省杭州市西湖高新园区(杭州麦乐克电子科技有限公司) 【申请人地区】中国 【申请人城市】杭州市 【申请人区县】西湖区 【申请号】CN201210063888.4 【申请日】2012-03-12 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102590918B 【公开公告日】2014-02-19 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102590918B 【授权公告日】2014-02-19 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】G02B5/28; G02B1/10; B32B9/04; B32B15/00; C23C14/54; C23C14/06; C23C14/14 【发明人】吕晶 【主权项内容】1.一种10560纳米带通红外滤光片，其特征是：(1)采用尺寸为Φ25.4×0.5mm的单晶锗Ge作基板；其表面光圈N≤5，局部光圈ΔN≤0.5，平行度θ≤1’；表面光洁度优于60/40；(2)镀膜材料选择硫化锌ZnS和单晶锗Ge，在基板两个表面上分别沉积多层干涉薄膜，所述多层干涉薄膜符合下述第3结构特征：(3)主膜系面薄膜结构采用Sub|HLHLH2LHLHLHLHLH2LHLHL|Air；干涉截止膜系面薄膜采用以下结构：Sub|0.76(0.5HL0.5H)5 0.5(0.5HL0.5H)5 0.35(0.5HL 0.5H)5 0.25(0.5HL 0.5H)6 0.16(0.5HL 0.5H)6|Air膜系中符号含义分别为：Sub为基板、Air为空气、H为λc/4单晶锗膜层、L为λc/4硫化锌膜层、λc＝10560纳米、结构式中数字为膜层的厚度系数、结构式中的指数是膜堆镀膜的周期数。 【当前权利人】杭州麦乐克科技股份有限公司 【当前专利权人地址】浙江省杭州市余杭区兴国路503号6幢二层 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股的法人独资) 【统一社会信用代码】91330100796681154C 【引证次数】4.0 【被引证次数】1 【他引次数】4.0 【被自引次数】1.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】18

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