【摘要】 本发明的目的在于提供一种MOCVD设备反应器的喷淋头及其连接结构，减少底层和中间层在底面焊接带来的不利影响。其中，喷淋头包括喷淋组件、顶盖组件，顶盖组件包括顶盖，喷淋组件包括连接在一起的底层、中间层和顶层，底层和中间层之间形成冷却水通道、冷却水腔，中间层和顶层之间形成V族气体腔体，顶层和顶盖之间形成III族气体腔体，底层为内凹形一体件，具有底壁和自底部凸出的圈围侧壁，中间层的外侧面和底层的圈围侧壁的内侧面焊接。 【专利类型】发明授权 【申请人】杭州士兰明芯科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】310018 浙江省杭州市杭州经济技术开发区(下沙)10号路300号 【申请人地区】中国 【申请人城市】杭州市 【申请人区县】上城区 【申请号】CN201210204724.9 【申请日】2012-06-18 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102691051B 【公开公告日】2014-04-09 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102691051B 【授权公告日】2014-04-09 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】C23C16/455 【发明人】丁云鑫; 徐小明; 周永君; 邬建伟 【主权项内容】MOCVD设备反应器的喷淋头，包括喷淋组件、顶盖组件，顶盖组件包括顶盖，喷淋组件包括连接在一起的底层、中间层和顶层，底层和中间层之间形成冷却水通道、冷却水腔，中间层和顶层之间形成V族气体腔体，顶层和顶盖之间形成III族气体腔体，其特征在于，底层为内凹形一体件，具有底壁和自底壁凸出的圈围侧壁，中间层的外侧面和底层的圈围侧壁的内侧面焊接，在底层的底壁上有环形筋条，该环形筋条、底壁、圈围侧壁的内侧面以及中间层的下表面之间合成环形的冷却水通道，该环形筋条、底壁以及中间层的表面之间合成冷却水腔，所述冷却水通道由设置在所述底壁上的挡水筋条分隔成进水通道和出水通道，所述环形筋条有缺口以分别形成有进水通道的出口以及出水通道的入口。 【当前权利人】杭州士兰明芯科技有限公司 【当前专利权人地址】浙江省杭州市杭州经济技术开发区(下沙)10号路300号 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股) 【统一社会信用代码】913301017654845885 【引证次数】3.0 【被引证次数】2 【自引次数】2.0 【他引次数】1.0 【被他引次数】2.0 【家族引证次数】3.0 【家族被引证次数】5

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