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一种LED外延结构的生长方法及其设备专利

时间:2026-10-06    作者:admin 点击: ( 2 ) 次

【摘要】 本发明涉及LED制备技术领域,这种LED外延结构的生长方法包括步骤Ⅰ:在第一反应腔中,在生长有第一半导体层的基底上生长量子阱层;然后在所述量子阱层上生长用于防止所述量子阱层受污染的隔离层。步骤Ⅱ:将所述生长有隔离层的基底通过转移通道转移到第二反应腔中,刻蚀隔离层后生长第二半导体层。本发明还提供这种外延结构生长设备,包括样品台以及用于所述样品台从一反应腔转移至另一反应腔的转移通道,所述转移通道充有保护气体,且控制所述保护气体压强不高于所述任一反应腔内的压强。本发明能提高量子阱层的稳定性能,大大加强LED的产品质量。 【专利类型】发明申请 【申请人】光达光电设备科技(嘉兴)有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】314300 浙江省海盐县盐北路211号科创园西区1号楼3楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】嘉兴市 【申请人区县】海盐县 【申请号】CN201210574784.X 【申请日】2012-12-26 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103904169A 【公开公告日】2014-07-02 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】H01L33/00 【发明人】林翔 【主权项内容】一种LED外延结构的生长方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤Ⅰ:在第一反应腔中,在生长有第一半导体层的基底上生长量子阱层;然后在所述量子阱层上生长用于防止所述量子阱层受污染的隔离层。步骤Ⅱ:将所述生长有隔离层的基底通过转移通道转移到第二反应腔中,刻蚀隔离层后生长第二半导体层。 【当前权利人】光达光电设备科技(嘉兴)有限公司 【当前专利权人地址】浙江省海盐县盐北路211号科创园西区1号楼3楼 【专利权人类型】有限责任公司(台港澳与境内合资) 【统一社会信用代码】91330400MA29GQ2771

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