【摘要】 本发明公开了一种双光束干涉光刻方法和系统，其方法包括：两路光束在加工工件表面实现N次干涉曝光，相邻两次曝光位置之间的错位值为dI/N，其中，N≥2，dI为曝光后的光强分布的周期，所述两路光束干涉后的光场复振幅分布为余弦函数。通过本发明的双光束干涉光刻方法，可以在光刻胶上直接制备大幅面的精密多台阶结构，加工效率高，而且所采用的元器件容易获得，成本低。 【专利类型】发明授权 【申请人】苏州大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】215123 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请号】CN201210229675.4 【申请日】2012-07-04 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102722091B 【公开公告日】2014-04-30 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102722091B 【授权公告日】2014-04-30 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】G03F7/20 【发明人】胡进; 浦东林 【主权项内容】一种双光束干涉光刻方法，其特征在于，两路光束在加工工件表面实现N次干涉曝光，两路光束的任一光路上设有一楔形位相板，通过移动楔形位相板改变其所在光路的初始位相，从而使得加工工件上的干涉条纹沿着水平方向移动，实现多次曝光的错位叠加，并使得相邻两次曝光位置之间的错位值为dI/N，其中，N≥2，dI为曝光后的光强分布的周期，所述两路光束干涉后的光场复振幅分布为余弦函数，多次曝光使得余弦类型的光强错位叠加，使得总光强分布为一个水平直线，获得平顶的台阶结构。 【当前权利人】苏州大学 【当前专利权人地址】江苏省苏州市工业园区仁爱路199号 【统一社会信用代码】123200004660073435 【家族引证次数】6.0 【家族被引证次数】10

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