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一种不含添加剂的过氧乙酸溶液及其制备方法专利

时间:2026-09-27    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明涉及一种不含添加剂的过氧乙酸溶液及其制备方法,过氧乙酸溶液由过氧乙酸2%~40%,过氧化氢10%~35%、单项金属离子杂质含量≤5ppb,单项阴离子杂质含量≤1ppm,有机物杂质含量≤5ppm以及余量为水组成,过氧乙酸溶液中粒径≥0.2μm的颗粒的浓度小于等于100个/ml。该制备方法是使高纯双氧水与高纯冰醋酸在反应釜中、温度40℃~50℃下保温搅拌20~40小时,然后过滤,灌装即得。本发明过氧乙酸溶液产品纯度更高,可以应用于医疗、食品、生物制剂等高端领域,开拓了过氧乙酸的应用领域;将其应用在试剂合成领域,可降低副反应,减少副产物,提高反应产率;此外,本发明产品更具环境友好性。 【专利类型】发明授权 【申请人】苏州晶瑞化学有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】215168 江苏省苏州市吴中经济开发区澄湖东路3号 【申请人地区】中国 【申请人城市】苏州市 【申请人区县】吴中区 【申请号】CN201210132144.3 【申请日】2012-04-28 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102659655B 【公开公告日】2014-03-12 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102659655B 【授权公告日】2014-03-12 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】C07C409/26; C07C407/00 【发明人】王涛; 刘兵; 朱一华; 胡建康 【主权项内容】一种不含添加剂的过氧乙酸溶液的制备方法,其特征在于:以重量含量计,所述过氧乙酸溶液由过氧乙酸2%~40%,过氧化氢10%~35%、单项金属离子杂质含量≤5ppb,单项阴离子杂质含量≤1ppm,有机物杂质含量≤5ppm以及余量为水组成,所述过氧乙酸溶液中粒径≥0.2μm的颗粒的浓度小于等于100个/ml,该方法使浓度为30wt%~70wt%的高纯双氧水与浓度≥99.9wt%的高纯冰醋酸在反应釜中、温度40℃~50℃下保温搅拌20~40小时,然后过滤,灌装得到所述的过氧乙酸溶液,其中:所述的高纯双氧水中的单项金属离子杂质含量≤1ppb,单向阴离子杂质含量≤1ppm,有机物杂质含量≤5ppm,粒径≥0.2μm的颗粒的浓度小于等于100个/ml;所述的高纯冰醋酸中的还原物质含量≤0.03wt%,单项金属杂质离子含量<10ppb,有机物杂质含量≤5ppm,粒径≥0.2μm的颗粒的浓度小于等于100个/ml;在使用所述反应釜和用于灌装的包装桶之前,采用浓度为35wt~40wt%的高纯过氧乙酸溶液和电导率大于18.2M的蒸馏水对反应釜和包装桶进行清洗处理,所述用于清洗处理的高纯过氧乙酸溶液中单项金属离子杂质含量≤5ppb,单项阴离子杂质含量≤1ppm,有机物杂质含量≤5ppm。 【当前权利人】晶瑞电子材料股份有限公司 【当前专利权人地址】江苏省苏州市吴中区吴中经济开发区河东工业园善丰路168号 【被引证次数】4 【被他引次数】4.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】5

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