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光刻方法专利

时间:2026-09-25    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明涉及一种光刻方法,包括下列步骤:在晶圆上涂覆六甲基二硅胺烷;在所述晶圆上形成抗反射涂层并烘烤;在所述晶圆上涂覆光刻胶,所述光刻胶为正性光刻胶;对涂覆的光刻胶进行软烘;对所述涂覆的光刻胶进行曝光;对光刻胶进行曝光后烘烤;对曝光后的光刻胶进行显影;对显影后的光刻胶进行硬烘。因此,相对于传统技术改善了产品的关键尺寸(CD),提高了产品的良率。 【专利类型】发明申请 【申请人】无锡华润上华半导体有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】滨湖区 【申请号】CN201210258708.8 【申请日】2012-07-24 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103576466A 【公开公告日】2014-02-12 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】G03F7/20; G03F7/26 【发明人】徐春云 【主权项内容】一种光刻方法,包括下列步骤:在晶圆上涂覆六甲基二硅胺烷;在所述晶圆上形成抗反射涂层并烘烤;在所述晶圆上涂覆光刻胶,所述光刻胶为正性光刻胶;对涂覆的光刻胶进行软烘;对所述涂覆的光刻胶进行曝光;对光刻胶进行曝光后烘烤;对曝光后的光刻胶进行显影;对显影后的光刻胶进行硬烘。 【当前权利人】无锡华润上华半导体有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号 【专利权人类型】有限责任公司(外商合资) 【统一社会信用代码】91320214714903842J 【引证次数】7.0 【被引证次数】6 【自引次数】1.0 【他引次数】6.0 【被他引次数】6.0 【家族引证次数】7.0 【家族被引证次数】6

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