【摘要】 本发明涉及一种高可靠性的光纤阵列U槽的制造方法，所述高可靠性的光纤阵列U槽，包括基板；所述基板内凹设有若干均匀分布的U槽，相邻U槽间通过棱间隔；U槽的侧壁与基板表面间的夹角小于90度。本发明降低了U槽侧壁和槽面交界处及光纤的应力，使受力时光纤和U槽都不易损坏，降低了传输损耗，提高了光纤阵列组装的良率，同时也提高了光纤阵列的可靠性；组装光纤阵列时，光纤更易于放置，所需的UV胶减少，节约了组装光纤阵列的成本；湿法腐蚀精度优于机械加工的精度，在损耗性能方面经测试本发明U槽光学衰减要比机械切割的V槽优于1分贝，光学均匀性优于1分贝，结构紧凑，安全可靠。 【专利类型】发明授权 【申请人】缪建民 【申请人类型】个人 【申请人地址】江苏省无锡市滨湖区高浪路999号太湖科技中心16楼华景传感科技(无锡)有限公司 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】滨湖区 【申请号】CN201210075812.3 【申请日】2012-03-20 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102608698B 【公开公告日】2014-04-30 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102608698B 【授权公告日】2014-04-30 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】G02B6/12; G02B6/13 【发明人】缪建民 【主权项内容】一种高可靠性的光纤阵列U槽制造方法，其特征是，所述光纤阵列U槽制造方法包括如下步骤：(a)、提供所需的基板(1)，并在所述基板(1)的表面上淀积第一遮挡层(3)；(b)、在上述基板(1)的表面上淀积第二遮挡层(4)，所述第二遮挡层(4)覆盖于第一遮挡层(3)上；(c)、在上述第二遮挡层(4)上旋涂光刻胶层(5)，并选择性地掩蔽和刻蚀光刻胶层(5)，得到第一定位孔(10)，所述第一定位孔(10)从光刻胶层(5)的表面延伸到第二遮挡层(4)；(d)、在第一定位孔(10)导向定位下，对第二遮挡层(4)进行湿法刻蚀，得到第二定位孔(11)，所述第二定位孔(11)从光刻胶层(5)的表面延伸到第一遮挡层(3)；(e)、在第二定位孔(11)导向定位下，对第一遮挡层(3)进行湿法刻蚀，得到第三定位孔(12)，所述第三定位孔(12)从光刻胶层(5)的表面延伸到基板(1)的表面；(f)、去除基板(1)上方的光刻胶层(5)；(g)、在第三定位孔(12)导向定位下，采用湿法腐蚀对基板(1)进行刻蚀，在基板(1)内得到U槽(2)，所述U槽(2)与上方对应的第三定位孔(12)相连通；(h)、去除上述基板(1)上方的第二遮挡层(4)；(i)、去除上述基板(1)表面上的第一遮挡层(3)；所述步骤(g)中，采用氢氟酸溶液对基板(1)进行腐蚀；所述基板(1)的材料为玻璃或石英；所述第一遮挡层(3)的材料包括Cr或Ti，第一遮挡层(3)的厚度为5~20nm；所述第二遮挡层(4)的材料包括Au、Cu、或Mo；第二遮挡层(4)的厚度为300nm~1000nm。 【当前权利人】华景传感科技(无锡)有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市新吴区菱湖大道200号中国传感网国际创新园F2 【引证次数】4.0 【自引次数】1.0 【他引次数】3.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】1

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