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一种镁合金无氰电镀工艺打底铜处理液专利

时间:2026-09-23    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明公开了一种镁合金无氰电镀工艺打底铜处理液,该处理液由下列组份组成:二价铜离子60-80g/L,镍离子10-20g/L,镁离子0-6g/L,醋酸10-16g/L,柠檬酸8-12g/L,羟基亚乙基二膦酸(HEDP)20-24g/L,硫脲或其衍生物适量,十二烷基硫酸钠1-2g/L,处理液pH值为0.5-1.5。。 【专利类型】发明申请 【申请人】无锡福镁轻合金科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】214183 江苏省无锡市惠山区玉祁街道芙蓉村蓉丰路5号 【申请人地区】中国 【申请人城市】无锡市 【申请人区县】惠山区 【申请号】CN201210323957.0 【申请日】2012-09-04 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103668137A 【公开公告日】2014-03-26 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】C23C18/40 【发明人】丁汉林; 魏峰; 严峻; 陈伟 【主权项内容】一种镁合金无氰电镀工艺打底铜处理液,其特征在于,该处理液由下列组份组成:二价铜离子60-80g/L,镍离子10-20g/L,镁离子0-6g/L,醋酸10-16g/L,柠檬酸8-12g/L,羟基亚乙基二膦酸(HEDP)20-24g/L,硫脲或其衍生物适量,十二烷基硫酸钠1-2g/L,处理液pH值为0.5-1.5。 【当前权利人】无锡福镁轻合金科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省无锡市惠山区玉祁街道芙蓉村蓉丰路5号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】9132020658999983XA

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