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一种发光二极管及其缓冲层的制备方法专利

时间:2026-09-21    作者:admin 点击: ( 2 ) 次

【摘要】 本发明公开了一种发光二极管及其缓冲层的制备方法, 所述发光二极管包括:蓝宝石衬底,依次形成于蓝宝石衬底上的缓冲层、N型半导体层、有源发光层、P型半导体层,所述的缓冲层材料为InxGa1-xN,在整个外延缓冲层生长过程中,缓冲层中In、Ga的含量处于梯度变化的过程,x是不断变化的过程,x从开始的1到缓冲层生长结束时为0,即缓冲层中In的量是不断递减的过程,Ga的量是不断递增的过程。 【专利类型】发明申请 【申请人】江苏汉莱科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】213164 江苏省常州市武进高新技术产业开发区凤林路55号 【申请人地区】中国 【申请人城市】常州市 【申请人区县】武进区 【申请号】CN201210366990.1 【申请日】2012-09-28 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103700743A 【公开公告日】2014-04-02 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】H01L33/12; H01L33/32; C23C16/455; C23C16/34 【发明人】林桂荣; 庄文荣; 孙明; 颜建锋; 敖辉 【主权项内容】一种发光二极管,其依次包括蓝宝石衬底、缓冲层、N型半导体层、有源发光层、P型半导体层,其特征在于缓冲层为InxGa1-xN,沿蓝宝石衬底往上x为递减,即在缓冲层中In的含量从下至上递减,Ga的含量从下至上递增,0≤x≤1。 【当前权利人】江苏汉莱科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省常州市武进高新技术产业开发区凤林路55号 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股) 【统一社会信用代码】91320412550234987E 【引证次数】4.0 【被引证次数】6 【他引次数】4.0 【被他引次数】6.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】6

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