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硅片清洗槽水位控制装置专利

时间:2026-06-07    作者:admin 点击: ( 10 ) 次

【摘要】 一种硅片清洗槽水位控制装置,它包括清洗槽、进水阀、透明观察管、低位光电开关、高位光电开关和电磁换向阀,透明观察管与清洗槽的底部相通连,透明观察管的高度与清洗槽的高度一致,在透明观察管上标有最低水位标记和最高水位标记,采用光电开关和电磁阀则能对清洗槽的水位进行自动监控和补液。透明观察管的增设提高了人们观察精度,确保清洗槽内的水位始终符合清洗工艺要求。若配备了光电开关,光电开关可以自动感知透明观察管中的实际水位,然后由电磁阀来控制进水阀向清洗槽内加水。 【专利类型】实用新型 【申请人】常州亿晶光电科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】213200 江苏省金坛市尧塘镇金武路18号 【申请人地区】中国 【申请人城市】常州市 【申请人区县】金坛区 【申请号】CN201020546554.9 【申请日】2010-09-29 【申请年份】2010 【公开公告号】CN201859354U 【公开公告日】2011-06-08 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN201859354U 【授权公告日】2011-06-08 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】G05D9/12; B08B3/00 【发明人】屈莹; 郝子龙; 何垚; 梁雪美 【主权项内容】一种硅片清洗槽水位控制装置,它包括清洗槽(1)和进水阀(2),其特征是:它还包括透明观察管(3),透明观察管(3)的底部与清洗槽(1)的底部相通连,透明观察管(3)的高度与清洗槽(1)的高度一致。 【当前权利人】常州亿晶光电科技有限公司 【当前专利权人地址】江苏省金坛市尧塘镇金武路18号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91320413748721887W 【被引证次数】1 【被自引次数】1.0 【家族被引证次数】1

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