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一种湿法刻蚀监控方法专利

时间:2026-06-04    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 本发明提供一种湿法刻蚀监控方法,包括如下步骤:第一步、用印刷或喷涂的方法在硅片表面的掩膜区制备出非掩膜区图形;第二步、把非掩膜区图形部分的掩膜刻蚀形成非掩膜区;第三步、用四探针探头测量非掩膜区的方块电阻,非掩膜区的方块电阻的阻值为90~160Ω。本发明利用在掩膜区挖出一定区域的非掩膜区,监控该非掩膜区的方块电阻来控制刻蚀工艺点,本发明可以使工艺控制有依据,方便对刻蚀过程的控制。 【专利类型】发明申请 【申请人】常州天合光能有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】213031 江苏省常州市新北区电子产业园天合路2号 【申请人地区】中国 【申请人城市】常州市 【申请人区县】新北区 【申请号】CN201010620680.9 【申请日】2010-12-31 【申请年份】2010 【公开公告号】CN102130214A 【公开公告日】2011-07-20 【公开公告年份】2011 【IPC分类号】H01L31/18; H01L21/00 【发明人】叶权华; 杨文侃; 杨延德 【主权项内容】一种湿法刻蚀监控方法,用于对太阳电池PN结的湿法刻蚀程度进行监控,其特征在于:包括如下步骤:第一步、用印刷或喷涂的方法在硅片表面的掩膜区制备出非掩膜区图形;第二步、把非掩膜区图形部分的掩膜刻蚀形成非掩膜区;第三步、用四探针探头测量非掩膜区的方块电阻,非掩膜区的方块电阻的阻值为90~160Ω。 微信 【当前权利人】常州天合光能有限公司 【当前专利权人地址】江苏省常州市新北区电子产业园天合路2号 【专利权人类型】有限责任公司 【统一社会信用代码】91320411608131455L 【引证次数】3.0 【被引证次数】6 【他引次数】3.0 【被自引次数】2.0 【被他引次数】4.0 【家族引证次数】3.0 【家族被引证次数】6

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