【摘要】本发明涉及一种晶体硅RIE制绒的表面损伤层清洗工艺,首先对硅片表面损伤层进行去离子水表面预清洗;然后利用HF、HNO3与水或醋酸按体积比HF∶HNO3∶水或醋酸=1∶50∶100的混合溶液进行第一次去损伤清洗;之后再次进行去离子水清
【摘要】 本实用新型属于锅炉设备领域,尤其是一种密封的锅炉炉盖。它包括炉门盖,炉门盖一端与炉门框铰接,另一端通过活动卡扣与炉门框连接,炉门框与炉门盖所接触之面上密封圈,该密封圈主要包括石棉层,炉门盖顶端设有盖板,盖板上设有气缸,气缸的缸杆伸入盖板内与炉门盖接触。本实用新型的好处是结构简单实用,使用方便,密封性能好。 【专利类型】实用新型 【申请人】郑亚峰 【申请人类型】个人 【申请人地址】213000 江苏省常州市新北区西夏墅镇浦和东街103号 【申请人地区】中国 【申请人城市】常州市 【申请人区县】新北区 【申请号】CN201020635837.0 【申请日】2010-12-01 【申请年份】2010 【公开公告号】CN201964445U 【公开公告日】2011-09-07 【公开公告年份】2011 【授权公告号】CN201964445U 【授权公告日】2011-09-07 【授权公告年份】2011.0 【IPC分类号】F23M7/00 【发明人】郑亚峰 【主权项内容】锅炉炉盖,其特征在于:它包括炉门盖,炉门盖一端与炉门框铰接,另一端通过活动卡扣与炉门框连接,炉门框与炉门盖所接触之面上密封圈,该密封圈主要包括石棉层,炉门盖顶端设有盖板,盖板上设有气缸,气缸的缸杆伸入盖板内与炉门盖接触。 【当前权利人】郑亚峰 【当前专利权人地址】江苏省常州市新北区西夏墅镇浦和东街103号
未经允许不得转载:http://www.zhongzhencnc.com/1780511472.html






