【摘要】本发明的从空气中通过变压吸附制取氮气的方法，涉及变压吸附空气分离制取氮气的工艺流程。主要解决了现有变压吸附空气分离制取氮气技术在装置大型化后吸附剂容易松动、粉化的问题；本方法在至少二个装填有碳分子筛吸附剂的吸附床的变压吸附系统中，系
【摘要】 氧化硅膜(31)上的各源电极和漏电极均具有ITO膜(32)、透明电极以及形成在ITO膜(32)上的金属膜(33)的双层结构。没有源极和漏极区域的间隙(35)形成在源电极和漏电极之间。氮化硅膜(34)(栅极绝缘膜)形成在源电极和漏电极上以及间隙(35)中。氮化硅膜(34)是具有相对大的厚度的第一区域D1和具有相对小的厚度的区域D2。氮化硅膜(34)的区域D2具有MIM结构。栅极总线层(36)形成在氮化硅膜(34)上。MIM结构形成在第二区域D2中。 【专利类型】发明申请 【申请人】统宝香港控股有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】中国香港沙田香港科学园区科技大道东5号飞利浦大厦二楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】香港特别行政区 【申请号】CN200480039792.8 【申请日】2004-12-14 【申请年份】2004 【公开公告号】CN100407031C 【公开公告日】2008-07-30 【公开公告年份】2008 【授权公告号】CN100407031C 【授权公告日】2008-07-30 【授权公告年份】2008.0 【IPC分类号】G02F1/1362 【发明人】田中秀夫 【主权项内容】1.一种具有ESD保护电路的液晶显示装置，包括： 源电极和漏电极，经过层间绝缘膜形成在绝缘衬底上； 栅极绝缘膜，在所述源电极和所述漏电极上部分地具有相对薄的薄膜部分； 以及 栅极总线层，形成在至少包括所述薄膜部分的所述栅极绝缘膜上， 其中MIM结构由所述源电极和漏电极、所述栅极绝缘膜中的所述薄膜部 分以及所述栅极总线层构成。 【当前权利人】统宝香港控股有限公司 【当前专利权人地址】中国香港沙田香港科学园区科技大道东5号飞利浦大厦二楼 【引证次数】6.0 【他引次数】6.0 【家族引证次数】21.0 【家族被引证次数】11.0
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