【摘要】本实用新型是分辨力自增掩模板,属于对光刻机 光刻系统中掩模板结构的进一步改进。其特征是根据掩模板下 表面的掩模图形的形状和特征线宽,上表面刻蚀相应宽度和形 状相位光栅或图形,将产生离轴照明的相位光栅或图形与传统 掩模板结合为一体结构
【摘要】 省略其它视图。 【专利类型】外观设计 【申请人】严文汉 【申请人类型】个人 【申请人地址】610041四川省成都市玉林北巷二号三单元四楼七号 【申请人地区】中国 【申请人城市】成都市 【申请人区县】武侯区 【申请号】CN98331829.8 【申请日】1998-09-24 【申请年份】1998 【公开公告号】CN3113007D 【公开公告日】1999-06-16 【公开公告年份】1999 【授权公告号】CN3113007D 【授权公告日】1999-06-16 【授权公告年份】1999.0 【发明人】严文汉 【主权项内容】无 【当前权利人】严文汉 【当前专利权人地址】四川省成都市玉林北巷二号三单元四楼七号
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