【摘要】 本发明提出一种无掩膜曝光系统及其曝光方法，包括：激光光源、半波片、分束镜、第一光强衰减器、第一电动快门、第一反射镜、扩束镜、准直镜、掩膜版支撑架、傅立叶变换透镜、光折变晶体、第二反射镜、第二光强衰减器、第二电动快门、成像透镜和晶片支撑架。采用本发明的无掩膜曝光系统，可以大大减少掩膜版的数量，降低了因为使用多套掩膜版的带来的掩膜版的费用。 【专利类型】发明授权 【申请人】杭州士兰明芯科技有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】310018 浙江省杭州市杭州经济技术开发区白杨街道10号大街300号 【申请人地区】中国 【申请人城市】杭州市 【申请人区县】上城区 【申请号】CN201210121376.9 【申请日】2012-04-23 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102621827B 【公开公告日】2014-03-12 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102621827B 【授权公告日】2014-03-12 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】G03F7/20; G02B27/10 【发明人】丁海生; 李东昇; 马新刚; 江忠永; 张昊翔 【主权项内容】一种无掩膜曝光系统，包括：激光光源、半波片、分束镜、第一光强衰减器、第一电动快门、第一反射镜、扩束镜、准直镜、用于固定掩膜版的掩膜版支撑架、傅立叶变换透镜、光折变晶体、第二反射镜、第二光强衰减器、第二电动快门、成像透镜和晶片支撑架；所述激光光源发出的激光经过所述半波片后到达所述分束镜，经过所述分束镜后分为透射光束和反射光束；所述透射光束经过所述第一光强衰减器和所述第一电动快门后到达所述第一反射镜，再经过所述扩束镜和所述准直镜，再经过所述掩膜版支撑架和所述傅立叶变换透镜到达所述光折变晶体；所述反射光束经过所述第二反射镜后，再经过所述第二光强衰减器和所述第二电动快门后到达所述光折变晶体，在所述光折变晶体之后还放置有所述成像透镜和用于放置晶片的所述晶片支撑架，所述成像透镜的前焦点和所述傅立叶变换透镜的后焦点重合。 【当前权利人】杭州士兰明芯科技有限公司 【当前专利权人地址】浙江省杭州市杭州经济技术开发区白杨街道10号大街300号 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股) 【统一社会信用代码】913301017654845885 【引证次数】5.0 【自引次数】1.0 【他引次数】4.0 【家族引证次数】5.0

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