【摘要】 一种以氧化铬弥散强化铜为基体的铜铬触头材料的制造方法，步骤如下：1、铜铬合金粉料的制备：电解铜和铬按一定比例秤重，在真空雾化设备中熔炼、雾化，制得-100目的铜铬合金粉；2、铜铬合金粉料内氧化制备氧化铬弥散强化铜粉：上述制得的铜铬合金粉在空气中预氧化后，再在850～950℃低真空内氧化6～10小时，所得料粉碎过100目筛；3、上述内氧化后的粉料在400～600℃温度下氢气中还原，所得料粉碎过100目筛；4、铬粉的制备：将高纯铬块粉碎制得-120目的铬粉备用；5、上述备用的两种粉末按比例混合、压制、烧结及复压、复烧，最终制得所要求的以氧化铬弥散强化铜为基体的铜铬触头材料。 【专利类型】发明授权 【申请人】浙江亚通金属陶瓷有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】310011 浙江省杭州市莫干山路1418号 【申请人地区】中国 【申请人城市】杭州市 【申请人区县】拱墅区 【申请号】CN201210552206.6 【申请日】2012-12-18 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103255311B 【公开公告日】2014-12-24 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN103255311B 【授权公告日】2014-12-24 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】C22C9/00; C22C1/04; C22C1/10; H01H1/025 【发明人】丁枢华; 余贤旺; 方敏 【主权项内容】1.一种以氧化铬弥散强化铜为基体的铜铬触头材料的制造方法，其特征在于它采用如下步骤： 步骤1，铜铬合金粉料的制备：电解铜和铬按一定比例秤重，其中铬的含量控制在0.3～1.2%范围内，然后在真空雾化设备中熔炼、雾化，制得-100目的铜铬合金粉； 步骤2，铜铬合金粉料内氧化制备氧化铬弥散强化铜粉：上述制得的铜铬合金粉在空气中预氧化后，再在850～950℃、1×10-1～5×10-2Pa的低真空内氧化6～10 小时，所得料粉碎过100目筛；或上述制得的铜铬合金粉直接在800～900℃、8×10-1～8×10-2Pa的低真空内氧化8～15 小时，所得料粉碎过100目筛； 步骤3，上述内氧化后的粉料在400～600℃温度下氢气中还原，所得料粉碎过100目筛； 步骤4，铬粉的制备：将高纯铬块粉碎制得-120目的铬粉备用； 步骤5，上述备用的两种粉末按比例混合、压制、烧结及复压、复烧，烧结和复烧温度控制在900℃-1050℃，保温1-3小时，压制和复压在900MPa-1400MPa压力下进行，最终制得所要求的以氧化铬弥散强化铜为基体的铜铬触头材料。 【当前权利人】浙江省冶金研究院有限公司 【当前专利权人地址】浙江省杭州市拱墅区莫干山路1418-22号(上城科技工业基地) 【引证次数】5.0 【他引次数】5.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】5

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