【摘要】本发明涉及光学薄膜技术领域,具体涉及一种光学扩散膜及其制备方法及一种液晶显示装置。为了解决现有光学薄膜不能同时用于增光及光扩散的不足,本发明提供一种综合性能优越的光学扩散膜及其制备方法及一种液晶显示装置,该光学扩散膜包括透明基材,所
【摘要】 本发明公开了一种自支撑压电/铁电薄膜的制备方法,该方法首先采用现有技术制备保留阻挡层的阳极氧化铝薄膜;然后,在所述的阳极氧化铝薄膜的阻挡层表面沉积底电极,接着在所述的底电极表面依次沉积压电/铁电薄膜与顶电极;最后,用碱溶液腐蚀保留阻挡层的阳极氧化铝薄膜,使阻挡层和阳极氧化铝薄膜溶解在碱溶液中,得到自支撑压电/铁电薄膜。本发明的制备方法克服了衬底对薄膜存在束缚作用而导致的转化效率低、不易集成的问题,得到的自支撑压电/铁电薄膜具有平整度高、转换效率高的优点,是一种成本低廉、简单易行的制备方法,具有良好的应用前景。 【专利类型】发明授权 【申请人】中国科学院宁波材料技术与工程研究所 【申请人类型】科研单位 【申请人地址】315201 浙江省宁波市镇海区庄市大道519号 【申请人地区】中国 【申请人城市】宁波市 【申请人区县】镇海区 【申请号】CN201210002889.8 【申请日】2012-01-06 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102569639B 【公开公告日】2014-06-04 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102569639B 【授权公告日】2014-06-04 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】H01L41/27; H01L41/277 【发明人】李润伟; 左正笏; 尚杰; 詹清峰; 陈斌 【主权项内容】一种自支撑压电/铁电薄膜的制备方法,其特征是:首先采用现有技术制备保留阻挡层(201)的阳极氧化铝薄膜(200);然后,在所述的阳极氧化铝薄膜(200)的阻挡层(201)表面沉积底电极(202),接着在所述的底电极(202)表面依次沉积压电/铁电薄膜(203)与顶电极(204);最后,用碱溶液腐蚀保留阻挡层(201)的阳极氧化铝薄膜(200),使阻挡层(201)和阳极氧化铝薄膜(200)溶解在碱溶液中,得到自支撑压电/铁电薄膜;所述的沉积压电/铁电薄膜(203)的制备方法包括化学气相沉积,物理气相沉积法。 【当前权利人】中国科学院宁波材料技术与工程研究所 【当前专利权人地址】浙江省宁波市镇海区庄市大道519号 【统一社会信用代码】121000007178168758 【引证次数】3.0 【被引证次数】2 【他引次数】3.0 【被他引次数】2.0 【家族引证次数】3.0 【家族被引证次数】5
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