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钨硅靶材的制造方法专利

时间:2026-10-06    作者:admin 点击: ( 2 ) 次

【摘要】 微信 。本发明公开了钨硅靶材的制造方法。所述钨硅靶材的制造方法包括:提供高纯钨粉和高纯硅粉;采用湿混工艺将所述钨粉和所述硅粉进行混合,形成混合粉末;采用冷压工艺将所述混合粉末制成钨硅靶材坯料;采用真空热压工艺将所述钨硅靶材坯料制成钨硅靶材。本发明的制备方法工艺步骤少,生产速度快。采用本发明的制备方法能够获得了致密度大于或者等于99%的钨硅靶材,并且所获得的钨硅靶材微观结构均匀,具有优异的溅射使用性能。 【专利类型】发明申请 【申请人】宁波江丰电子材料有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】315400 浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路198号 【申请人地区】中国 【申请人城市】宁波市 【申请人区县】余姚市 【申请号】CN201210374813.8 【申请日】2012-09-27 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103695852A 【公开公告日】2014-04-02 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN103695852B 【授权公告日】2015-07-15 【授权公告年份】2015.0 【IPC分类号】C23C14/35; B22F3/16 【发明人】姚力军; 相原俊夫; 大岩一彦; 潘杰; 王学泽; 宋佳 【主权项内容】一种钨硅靶材的制造方法,其特征在于,包括:提供钨粉和硅粉;采用湿混工艺将所述钨粉和所述硅粉进行混合,形成混合粉末;采用冷压工艺将所述混合粉末制成钨硅靶材坯料;采用真空热压工艺将所述钨硅靶材坯料制成钨硅靶材。 【当前权利人】宁波江丰电子材料股份有限公司 【当前专利权人地址】浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路 【引证次数】4.0 【被引证次数】24 【自引次数】2.0 【他引次数】2.0 【被他引次数】24.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】25

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