【摘要】 本发明公开了一种化学气相沉积设备，其包括腔体，相对设置的进气装置和承载机构分别置于腔体的顶部和底部，共同限定反应区域，该承载机构包括若干支撑待处理衬底的衬底支撑盘及分别置于每个衬底支撑盘下面的若干加热器，各个加热器对应加热各个衬底支撑盘；该承载机构还包括衬板，其开设有与衬底支撑盘数量相对应的开孔，衬底支撑盘对应套设于开孔中；该承载机构还包括底座及连接于底座下面的底座转轴，加热器置于通过支撑轴连接于底座上的衬底支撑盘和底座之间。本发明通过将大的衬底支撑盘分解为多个小的衬底支撑盘，受热均匀性更优，进而使得衬底受热更均匀，提高了外延芯片的良率。本发明还公开了一种用于化学气相沉积设备的承载机构。 【专利类型】发明申请 【申请人】光达光电设备科技(嘉兴)有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】314300 浙江省海盐县盐北路211号科创园西区1号楼3楼 【申请人地区】中国 【申请人城市】嘉兴市 【申请人区县】海盐县 【申请号】CN201210519944.0 【申请日】2012-12-06 【申请年份】2012 【公开公告号】CN103849855A 【公开公告日】2014-06-11 【公开公告年份】2014 【IPC分类号】C23C16/44; C23C16/458; C23C16/46 【发明人】陈勇; 乔徽; 梁秉文; 黄颖泉 【主权项内容】一种化学气相沉积设备，包括腔体，设置于所述腔体顶部的进气装置，及设置于所述腔体底部的承载机构，所述进气装置与所述承载机构相对设置，并共同限定所述进气装置与所述承载机构之间的反应区，其特征在于，所述承载机构包括若干衬底支撑盘及对应的若干加热器，所述衬底支撑盘用于支撑待处理衬底，所述加热器设置在所述衬底支撑盘下面，所述若干加热器分别对应加热所述若干衬底支撑盘。 微信 【当前权利人】光达光电设备科技(嘉兴)有限公司 【当前专利权人地址】浙江省海盐县盐北路211号科创园西区1号楼3楼 【专利权人类型】有限责任公司(台港澳与境内合资) 【统一社会信用代码】91330400MA29GQ2771 【引证次数】5.0 【被引证次数】7 【自引次数】1.0 【他引次数】4.0 【被他引次数】7.0 【家族引证次数】5.0 【家族被引证次数】7

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