【摘要】 本发明公开了一种纳米级金属颗粒冷喷涂工艺，顺次采用以下步骤：(1)、在喷管出口端的端面设置一圈金属环形电极，环形电极内径等于喷管管壁内径；(2)、将环形电极、金属基体置于真空环境下，设置环形电极到金属基体表面的距离为5～50mm；(3)、将金属基体和环形电极接通可调式直流稳压电源，其中环形电极接电源正极，金属基体接电源负极；(4)、由喷管进口向喷管内输入一定压力的气体和纳米级金属颗粒，带正电荷的金属颗粒撞击到带负电的金属基体表面，从而在金属基体表面沉积形成纳米涂层。本发明集成了真空冷喷涂和电场辅助冷喷涂的优点，选择合适的工艺参数，可在常温常压工作条件下实现纳米级金属颗粒的喷涂作业。 【专利类型】发明授权 【申请人】河南理工大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】454003 河南省焦作市高新区世纪大道2001号 【申请人地区】中国 【申请人城市】焦作市 【申请人区县】山阳区 【申请号】CN201210246537.7 【申请日】2012-07-17 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102747363B 【公开公告日】2014-10-29 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102747363B 【授权公告日】2014-10-29 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】C23C24/04 【发明人】郑建新; 刘传绍; 陈松; 金耀辉 【主权项内容】一种纳米级金属颗粒冷喷涂工艺，其特征在于，顺次采用以下步骤：(1)、在喷管出口端的端面设置一圈金属环形电极，环形电极内径等于喷管管壁内径；(2)、将环形电极、金属基体置于真空环境下，喷管的中心线垂直于金属基体表面，并设置环形电极到金属基体表面的距离为5～50mm；(3)、将金属基体和环形电极接通可调式直流稳压电源，其中环形电极接电源正极，金属基体接电源负极；(4)、由喷管进口向喷管内输入一定压力的气体和纳米级金属颗粒，在气流和电场的综合作用下，带正电荷的金属颗粒撞击到带负电的金属基体表面，同时喷管和金属基体之间形成相对运动进行大范围的喷涂作业，从而在金属基体表面沉积形成纳米涂层；所述喷管为由陶瓷材料制成的拉瓦尔喷管；所述金属基体通过绝缘垫固定在可在三维方向分别调节移动的工作台上，金属基体随工作台沿水平面方向移动实现大范围喷涂作业；金属基体沿垂直方向运动调整环形电极与金属基体间的合适距离，实现最佳喷涂效果；所述环形电极与金属基体间的喷涂最短距离必须能保证喷管出口气体得到充分膨胀，金属基体放置最佳位置为气体自由射流第一周期速度的最低点；所述喷管的入口温度和出口温度均为常温；所述向喷管内输入的一定压力的为常压下的空气，喷管出口处的压力即真空环境下的压力不大于使喷管出口产生完全膨胀波所需压力。 【当前权利人】河南理工大学 【当前专利权人地址】河南省焦作市高新区世纪大道2001号 【专利权人类型】公立 【统一社会信用代码】12410000721851120U 【引证次数】3.0 【被引证次数】2 【他引次数】3.0 【被他引次数】2.0 【家族引证次数】4.0 【家族被引证次数】26

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