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一种太阳能选择性吸收膜系及其制备方法专利

时间:2026-10-02    作者:admin 点击: ( 1 ) 次

【摘要】 本发明涉及薄膜技术和太阳能技术等新能源开发技术领域,特指一种太阳能选择性吸收膜系及其制备方法。本发明采用双层AlN作为减反射层,采用单层Si作为膜系的吸收层,采用铝板作为膜系的基体,其中基体采用MEMS工艺方法处理成具有微坑结构的形状;为了使膜与基体结合良好和提高红外反射,首先在基体上镀一层铝膜,该膜系从顶层至底层依次为:双层AlN膜减反射层、单层Si吸收层、单层铝膜红外反射层。本发明具有“制备工艺简单,吸收率/发射率高”的优点;基体表面所形成的微坑结构可实现对太阳光的多次反射以增加光吸收;双层AlN膜可有力地减少膜表面对太阳光可见光的反射。 【专利类型】发明授权 【申请人】江苏大学 【申请人类型】学校 【申请人地址】212013 江苏省镇江市京口区学府路301号 【申请人地区】中国 【申请人城市】镇江市 【申请人区县】京口区 【申请号】CN201210047108.7 【申请日】2012-02-28 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102582150B 【公开公告日】2014-07-30 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102582150B 【授权公告日】2014-07-30 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】B32B9/04; B32B15/00; C23C14/35; C23C14/06; C23C14/16; F24J2/48 【发明人】范真; 杨娟; 丁建宁; 郭立强; 程广贵; 凌智勇; 张福庆 【主权项内容】1.一种太阳能选择性吸收膜系,以铝板作为膜系的基体,其特征在于:所述吸收膜系从顶层至底层依次为:作为减反射层的双层AlN膜,第一层膜厚30~40nm,第二层膜厚40~50nm;作为吸收层的单层Si膜,膜厚70~100nm;作为红外反射层的单层铝膜,膜厚50~60nm;和基体铝板;所述基体铝板上均匀布有圆形凹坑,所述圆形凹坑的直径小于红外光波长;所述圆形凹坑的直径为2.0???????????????????????????????????????????????,所述每cm2的基体铝板上均匀布有105个圆形凹坑。 【当前权利人】江苏大学 【当前专利权人地址】江苏省镇江市京口区学府路301号 【专利权人类型】公立 【统一社会信用代码】123200004660115453 【引证次数】2.0 【他引次数】2.0 【家族引证次数】2.0 【家族被引证次数】8

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