【摘要】 本发明公开了一种多槽循环硅片清洗机，包括机壳、清洗槽、给水管路及排水管路，清洗槽为至少6个顺次排列的槽体，依次主要由至少两个用于纯水清洗或药水碱洗的双功能清洗槽、至少两个用于药水碱洗的药洗清洗槽及至少两个用于纯水清洗的水洗清洗槽组成，排序末位的水洗清洗槽为慢提预洗脱水槽，双功能清洗槽中相邻两个槽体之间设有连通该槽体而形成双功能清洗槽逆向顺次溢流的溢流管，排水管路通过三通阀门与溢流管相连以使溢流液流入下级槽体或者通过排水管路排出实现双功能清洗槽的纯水清洗或者药水碱洗双功能。本发明双功能清洗槽既可作为碱洗槽也可作为水洗槽，方便硅片清洗工序调整和配置，且通过溢流方式减少用水量，节约水资源。 【专利类型】发明授权 【申请人】晶海洋半导体材料(东海)有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】222300 江苏省连云港市东海县经济开发区西区(铁路南侧、湖东路东侧) 【申请人地区】中国 【申请人城市】连云港市 【申请人区县】东海县 【申请号】CN201210279853.4 【申请日】2012-08-08 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102836842B 【公开公告日】2014-07-16 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102836842B 【授权公告日】2014-07-16 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】B08B3/12 【发明人】颜颉颃; 贾永前; 张欣 【主权项内容】一种多槽循环硅片清洗机，包括机壳、设置在机壳内的清洗槽、用于为清洗槽提供纯水的给水管路及用于将清洗槽内清洗液排出的排水管路，其特征在于：所述清洗槽为至少6个顺次排列的槽体，依次主要由至少两个用于纯水清洗或药水碱洗的双功能清洗槽、至少两个用于药水碱洗的药洗清洗槽及至少两个用于纯水清洗的水洗清洗槽组成，其中，排序末位的水洗清洗槽为慢提预洗脱水槽，所述双功能清洗槽中相邻两个槽体之间设有连通该槽体而形成双功能清洗槽逆向顺次溢流的溢流管，所述排水管路通过三通阀门与溢流管相连以使溢流液流入下级槽体或者通过排水管路排出实现双功能清洗槽的纯水清洗或者药水碱洗双功能。 【当前权利人】晶海洋半导体材料(东海)有限公司 【当前专利权人地址】江苏省连云港市东海县经济开发区西区(铁路南侧、湖东路东侧) 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股的法人独资) 【统一社会信用代码】913207006811132373 【引证次数】9.0 【被引证次数】1 【自引次数】1.0 【他引次数】8.0 【被他引次数】1.0 【家族引证次数】9.0 【家族被引证次数】10

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