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一种防止OJ芯片碱洗时晶粒侧腐蚀的方法专利

时间:2026-09-22    作者:admin 点击: ( 0 ) 次

【摘要】 一种防止OJ芯片碱洗时晶粒侧腐蚀的方法。涉及的是一种应用于OJ产品碱洗前晶粒表面的处理。提供一种可控制性好、工艺简单,能有效防止腐蚀现象发生的防止OJ芯片碱洗时晶粒侧腐蚀的方法。按以下步骤进行:1)、用去离子水配制KOH溶液,溶液质量比为去离子水:KOH=10:1;2)、将配置的碱溶液加热至50-110℃,保温;3)、将所述芯片置于恒温槽中,芯片表面析出气泡,反应1-20分钟后气泡变少后取出晶片用清水冲洗、晾干;4)、对芯片的顶面和底面镀覆镍金层;5)、碱洗,完毕。本发明大大降低晶粒在后续碱洗制程中Si与碱的反应速率,最终实现防止OJ晶粒碱洗时侧向腐蚀的现象。 【专利类型】发明授权 【申请人】扬州杰利半导体有限公司 【申请人类型】企业 【申请人地址】225008 江苏省扬州市平山堂北路江阳创业园三期 【申请人地区】中国 【申请人城市】扬州市 【申请号】CN201210180846.9 【申请日】2012-06-04 【申请年份】2012 【公开公告号】CN102664149B 【公开公告日】2014-07-16 【公开公告年份】2014 【授权公告号】CN102664149B 【授权公告日】2014-07-16 【授权公告年份】2014.0 【IPC分类号】H01L21/306 【发明人】裘立强; 王毅; 游佩武 【主权项内容】1.一种防止OJ芯片碱洗时晶粒侧腐蚀的方法,其特征在于,按以下步骤进行: 1)、用去离子水配制KOH溶液,溶液质量比为 去离子水:KOH=10:1-10; 2)、将配置的碱溶液加热至50-110℃,保温; 3)、将所述芯片置于恒温槽中,所述恒温槽中设有配置的碱溶液,芯片表面析出气泡,反应 1-20分钟后气泡变少后取出芯片用清水冲洗、晾干; 4)、对芯片的顶面和底面镀覆镍金层; 5)、碱洗,完毕。 【当前权利人】扬州杰利半导体有限公司 【当前专利权人地址】江苏省扬州市平山堂北路江阳创业园三期 【专利权人类型】有限责任公司(自然人投资或控股) 【统一社会信用代码】91321003689176902H 【引证次数】3.0 【他引次数】3.0 【家族引证次数】3.0

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